公开(公告)号：CN108689725A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810648474.5

申请日：2014-03-11

Applicant: 通用电气公司

Inventor： J.万 ,  M.K.布伦 ,  P.J.梅施特 ,  R.萨拉菲-诺尔 ,  D.M.利普金

IPC: C04B41/87 ,  C04B41/89 ,  C23C28/00 ,  C23C28/04 ,  F01D5/28

CPC classification number: C09D5/084 ,  B05D7/52 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5066 ,  C04B41/52 ,  C04B41/87 ,  C04B41/89 ,  C23C28/044 ,  C23C28/048 ,  C23C28/42 ,  F01D5/288 ,  F05D2230/90 ,  F05D2300/177 ,  Y10T428/2495 ,  C04B35/565 ,  C04B35/806 ,  C04B35/584 ,  C04B35/58085 ,  C04B41/4529 ,  C04B41/5071

Abstract: 一种制品，包括基材和设置在基材表面上的涂层。该涂层包括至少一个基本上由MoSi2或WSi2或(Mo,W)Si2或铂族金属硅化物构成的金属硅化物层，和至少一个基本上由Si3N4构成的层。

公开(公告)号：CN108689725B

公开(公告)日：2021-04-06

申请号：CN201810648474.5

申请日：2014-03-11

Applicant: 通用电气公司

Inventor： J.万 ,  M.K.布伦 ,  P.J.梅施特 ,  R.萨拉菲-诺尔 ,  D.M.利普金

IPC: C04B41/87 ,  C04B41/89 ,  C23C28/00 ,  C23C28/04 ,  F01D5/28

Abstract: 一种制品，包括基材和设置在基材表面上的涂层。该涂层包括至少一个基本上由MoSi2或WSi2或(Mo,W)Si2或铂族金属硅化物构成的金属硅化物层，和至少一个基本上由Si3N4构成的层。