公开(公告)号：CN1797788A

公开(公告)日：2006-07-05

申请号：CN200510127251.7

申请日：2005-11-24

Applicant: 通用电气公司

Inventor： V·马尼文南 ,  J·Y·桂 ,  C·D·亚科文格洛 ,  W·A·莫里森

IPC: H01L31/0224 ,  H01L31/18 ,  H01L21/28

CPC classification number: H01G9/2031 ,  B82Y10/00 ,  C23C16/405 ,  C23C16/56 ,  H01G9/2059 ,  Y02E10/542 ,  Y02P70/521 ,  Y10T428/12146 ,  Y10T428/12153 ,  Y10T428/12167

Abstract: 本说明书公开了一种包含衬底(12)和柱状结构的产品，其中该柱状结构包含半导体，且该柱状结构以下述方式置于衬底(12)上：其中该柱状结构的纵轴基本上垂直于衬底(12)。在此公开了包含其上设有电子传输涂层(14)的衬底(12)的电极(10)，其中该电子传输涂层(14)包含柱状结构。

公开(公告)号：CN1943002A

公开(公告)日：2007-04-04

申请号：CN200480042839.6

申请日：2004-03-01

Applicant: 通用电气公司

Inventor： M·沙伊肯斯 ,  C·D·伊亚科范格洛 ,  J·N·约翰逊 ,  W·A·莫里森

IPC: H01J37/32 ,  H05H1/32

CPC classification number: H01L27/14689 ,  H01L27/14647 ,  H01L31/101

Abstract: 本发明提供了一种等离子体源(102)，其中，可以响应等离子体室(104)内的选定条件而将间隙(110)(即阴极与阳极之间距离)实时地调节为所希望的距离。至少一个传感器(116)监视并检测等离子体室(104)内的所述条件的任何变化。包括至少一个等离子体源(102)的装置(100)产生至少一种稳定的、并可实时调节的等离子体。在一个实施例中，装置(100)包括多个等离子体源(102)，可以实时地将这些等离子体源(102)“调谐”，以产生互相类似的等离子体，或者相反地，可以将它们“去调谐”，以产生不相类似的等离子体。装置(100)可用于等离子体处理(例如但不限于物件(160)的镀膜、蚀刻和激活)。也公开了提供所述等离子体以及使用所述等离子体处理物件(160)的方法。

公开(公告)号：CN1797788B

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN200510127251.7

申请日：2005-11-24

Applicant: 通用电气公司

Inventor： V·马尼文南 ,  J·Y·桂 ,  C·D·亚科文格洛 ,  W·A·莫里森

IPC: H01L31/0224 ,  H01L31/18 ,  H01L21/28

CPC classification number: H01G9/2031 ,  B82Y10/00 ,  C23C16/405 ,  C23C16/56 ,  H01G9/2059 ,  Y02E10/542 ,  Y02P70/521 ,  Y10T428/12146 ,  Y10T428/12153 ,  Y10T428/12167

Abstract: 本发明公开了一种包含衬底(12)和柱状结构的产品，其中该柱状结构包含半导体，且该柱状结构以下述方式置于衬底(12)上：其中该柱状结构的纵轴基本上垂直于衬底(12)。在此公开了包含其上设有电子传输涂层(14)的衬底(12)的电极(10)，其中该电子传输涂层(14)包含柱状结构。