一种超低衰减大有效面积的单模光纤

    公开(公告)号:CN107422415A

    公开(公告)日:2017-12-01

    申请号:CN201710451543.9

    申请日:2017-06-15

    Abstract: 本发明一种超低衰减大有效面积的单模光纤,包括有芯层和包层,其特征在于芯层半径01为5.5~7.5μm,相对折射率差△n1为-0.02~0.10%,芯层外从内向外依次包覆内包层,下陷内包层,辅助外包层和外包层,内包层半径r2为14~17μm,相对折射率差△n2为-0.40~-0.15%,下陷内包层半径r3为15~19μm,相对折射率差△n3为-0.8~-0.3%,辅助外包层半径r4为35~52μm,相对折射率差△n4范围为-0.6~-0.25%,外包层为纯二氧化硅玻璃层。本发明合理的设计了光纤内部的粘度匹配,降低光纤的衰减参数,使光纤具有等于或大于130μm2的有效面积,光纤剖面采用较深较窄下陷包层结构,不仅使得光纤具有足够小的成缆截止波长,而且具有良好的弯曲性能。

    一种超低衰减大有效面积单模光纤

    公开(公告)号:CN106291808A

    公开(公告)日:2017-01-04

    申请号:CN201610829302.9

    申请日:2016-09-18

    CPC classification number: G02B6/0286 G02B6/036

    Abstract: 本发明涉及一种超低衰减大有效面积单模光纤,包括有芯层和包层,其特征在于所述的芯层半径r1为5~8μm,芯层的相对折射率Δn1为0~0.20%,芯层外从内向外依次包覆内包层,下陷内包层和外包层,所述的内包层半径r2为8.5~12μm,相对折射率Δn2小于或等于-0.20%,所述的下陷内包层半径r3为12.5~30μm,相对折射率Δn3小于或等于-0.40%,所述外包层为全掺氟二氧化硅玻璃层,相对折射率Δn4小于或等于-0.20%。本发明通过对芯包层波导结构和材料组分的合理设计,优化光纤各个部分粘度匹配和光纤应力,实现单模光纤的超低衰减性能。并使用掺氟二氧化硅外包层结构,改变光纤材料各个部分的材料弛豫时间,从而改变光纤的虚拟温度,并简化光纤剖面,实现光纤参数的稳定控制。

    具有超低衰减大有效面积的单模光纤

    公开(公告)号:CN109683232A

    公开(公告)日:2019-04-26

    申请号:CN201910133890.6

    申请日:2019-02-22

    CPC classification number: G02B6/02009 G02B6/03661

    Abstract: 本发明涉及一种具有超低衰减大有效面积的单模光纤,包括有芯层和包层,其特征在于芯层半径r1为5.5~7.5μm,相对折射率差△n1为0~0.20%,芯层外从内向外依次包覆内包层、下陷内包层、第一辅助外包层、第二外辅助外包层和外包层,内包层r2为11~17μm,△n2为-0.20~0,下陷内包层r3为15~19μm,△n3为-0.60~-0.20%,第一辅助外包层r4为35~47μm,△n4为-0.4~-0.10%,第二辅助外包层r5为40~52μm,△n5为-0.4~-0.10%,所述外包层为纯二氧化硅玻璃层。本发明合理的设计了光纤内部的粘度匹配,通过两层辅助外包层的结构设计,使得长波长的光更好的束缚在纤芯中传播,从而减小了长波长的衰减,使得光纤在C+L波段具有更平坦的衰减系数。

    一种单模光纤
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110456446A

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201910762943.0

    申请日:2019-08-19

    Abstract: 本发明涉及一种低弯曲损耗单模光纤,包括有芯层和包层,所述的包层从内至外包括内包层、下陷包层和外包层,其特征在于芯层直径2R1为8.2μm~9.4μm,相对折射率差Δ1为0.360%~0.420%,内包层直径2R2为16.0μm~19.0μm,内包层具有从内边缘到外边缘渐变的相对折射率差,其中最大相对折射率差Δ2max为0.02%~0.10%,外边缘即内包层和下陷包层交界处相对折射率差为0.0%,下陷包层直径2R3为28.0μm~35.0um,相对折射率差Δ3为-0.40%~-0.65%,所述的外包层为纯二氧化硅外包层。本发明通过折射率剖面的合理配置,在保证光纤具有较大的模场直径的条件下,具有较低的弯曲损耗,提高了光纤的弯曲性能;光纤的弯曲性能超过G.657.B3标准,满足接入网和一些小型化光器件的需求。

    一种超低衰减大有效面积的单模光纤

    公开(公告)号:CN107422415B

    公开(公告)日:2020-05-05

    申请号:CN201710451543.9

    申请日:2017-06-15

    Abstract: 本发明一种超低衰减大有效面积的单模光纤,包括有芯层和包层,其特征在于芯层半径01为5.5~7.5μm,相对折射率差△n1为‑0.02~0.10%,芯层外从内向外依次包覆内包层,下陷内包层,辅助外包层和外包层,内包层半径r2为14~17μm,相对折射率差△n2为‑0.40~‑0.15%,下陷内包层半径r3为15~19μm,相对折射率差△n3为‑0.8~‑0.3%,辅助外包层半径r4为35~52μm,相对折射率差△n4范围为‑0.6~‑0.25%,外包层为纯二氧化硅玻璃层。本发明合理的设计了光纤内部的粘度匹配,降低光纤的衰减参数,使光纤具有等于或大于130μm2的有效面积,光纤剖面采用较深较窄下陷包层结构,不仅使得光纤具有足够小的成缆截止波长,而且具有良好的弯曲性能。

    一种低衰减单模光纤
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105911639B

    公开(公告)日:2019-04-16

    申请号:CN201610347146.2

    申请日:2016-05-24

    Abstract: 本发明涉及一种用于光通信传输系统的低衰减单模光纤,包括有芯层和包层,其特征在于所述的芯层半径R1为4.0μm~7.0μm,相对折射率差Δ1为0.15%~0.35%,所述的包层包括下陷内包层和下陷外包层,所述的下陷内包层半径R2为7.0μm~12.0μm,下陷内包层相对折射率差Δ2为‑0.33%~‑0.05%,所述的下陷外包层相对折射率差Δ3为‑0.29%~‑0.05%。本发明在普通阶跃型剖面的基础上减少芯层掺锗量、增加包层掺氟量,在满足单模传输波导所需的芯包折射率差的基础上,将芯层和包层折射率同时下移,这样可以大大降低芯层掺杂剂浓度波动引起的瑞利散射损耗,而且,掺杂剂的改变使芯层粘度增加、包层粘度下降,芯包层粘度匹配得到进一步改善,这样可以减小拉丝过程产生的内应力,从而也可进一步降低衰减。

    一种具有较低衰减系数的单模光纤

    公开(公告)号:CN104765098A

    公开(公告)日:2015-07-08

    申请号:CN201510209898.8

    申请日:2015-04-28

    Abstract: 本发明涉及一种具有较低衰减系数的单模光纤,包括有芯层和包层,其特征在于所述的芯层半径r1为3.9~4.6μm,芯层相对折射率Δ1为0.08%~0.24%,芯层外从内向外依次包覆内包层,下陷内包层,辅助外包层和外包层,所述的内包层半径r2为8~15μm,相对折射率Δ2为-0.30%~-0.05%,所述的下陷内包层半径r3为14~20μm,相对折射率Δ3为-0.6%~-0.2%,所述的辅助外包层半径r4为35~50μm,相对折射率Δ4范围为-0.35%~-0.05%;所述外包层为纯二氧化硅玻璃层。本发明降低了光纤的衰减系数,并通过对光纤各芯包层剖面的合理设计,使光纤具有等于或大于8.7μm的MFD;本发明光纤剖面采用多层阶梯状下陷包层结构,具有较宽的下陷包层结构用于限制基模泄露,对光纤的弯曲损耗具有较好的改进作用。

    一种超低衰减大有效面积单模光纤

    公开(公告)号:CN106291808B

    公开(公告)日:2019-05-24

    申请号:CN201610829302.9

    申请日:2016-09-18

    Abstract: 本发明涉及一种超低衰减大有效面积单模光纤,包括有芯层和包层,其特征在于所述的芯层半径r1为5~8μm,芯层的相对折射率Δn1为0~0.20%,芯层外从内向外依次包覆内包层,下陷内包层和外包层,所述的内包层半径r2为8.5~12μm,相对折射率Δn2小于或等于‑0.20%,所述的下陷内包层半径r3为12.5~30μm,相对折射率Δn3小于或等于‑0.40%,所述外包层为全掺氟二氧化硅玻璃层,相对折射率Δn4小于或等于‑0.20%。本发明通过对芯包层波导结构和材料组分的合理设计,优化光纤各个部分粘度匹配和光纤应力,实现单模光纤的超低衰减性能。并使用掺氟二氧化硅外包层结构,改变光纤材料各个部分的材料弛豫时间,从而改变光纤的虚拟温度,并简化光纤剖面,实现光纤参数的稳定控制。

    一种具有较低衰减系数的单模光纤

    公开(公告)号:CN104765098B

    公开(公告)日:2018-03-16

    申请号:CN201510209898.8

    申请日:2015-04-28

    Abstract: 本发明涉及一种具有较低衰减系数的单模光纤,包括有芯层和包层,其特征在于所述的芯层半径r1为3.9~4.6μm,芯层相对折射率Δ1为0.08%~0.24%,芯层外从内向外依次包覆内包层,下陷内包层,辅助外包层和外包层,所述的内包层半径r2为8~15μm,相对折射率Δ2为‑0.30%~‑0.05%,所述的下陷内包层半径r3为14~20μm,相对折射率Δ3为‑0.6%~‑0.2%,所述的辅助外包层半径r4为35~50μm,相对折射率Δ4范围为‑0.35%~‑0.05%;所述外包层为纯二氧化硅玻璃层。本发明降低了光纤的衰减系数,并通过对光纤各芯包层剖面的合理设计,使光纤具有等于或大于8.7μm的MFD;本发明光纤剖面采用多层阶梯状下陷包层结构,具有较宽的下陷包层结构用于限制基模泄露,对光纤的弯曲损耗具有较好的改进作用。

    一种低衰减单模光纤
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105911639A

    公开(公告)日:2016-08-31

    申请号:CN201610347146.2

    申请日:2016-05-24

    CPC classification number: G02B6/02295

    Abstract: 本发明涉及一种用于光通信传输系统的低衰减单模光纤,包括有芯层和包层,其特征在于所述的芯层半径R1为4.0μm~7.0μm,相对折射率差Δ1为0.15%~0.35%,所述的包层包括下陷内包层和下陷外包层,所述的下陷内包层半径R2为7.0μm~12.0μm,下陷内包层相对折射率差Δ2为?0.33%~?0.05%,所述的下陷外包层相对折射率差Δ3为?0.29%~?0.05%。本发明在普通阶跃型剖面的基础上减少芯层掺锗量、增加包层掺氟量,在满足单模传输波导所需的芯包折射率差的基础上,将芯层和包层折射率同时下移,这样可以大大降低芯层掺杂剂浓度波动引起的瑞利散射损耗,而且,掺杂剂的改变使芯层粘度增加、包层粘度下降,芯包层粘度匹配得到进一步改善,这样可以减小拉丝过程产生的内应力,从而也可进一步降低衰减。

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