一种氧化铝生产用反应室

    公开(公告)号:CN107200341A

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201710542459.8

    申请日:2017-07-05

    CPC classification number: C01F7/144

    Abstract: 本发明公开了一种氧化铝生产用反应室,包括反应室外壳体和析出缸,所述反应室外壳体的上端设置有设备仓,且设备仓的内部安装有第一驱动电机,所述第一驱动电机的前端连接有减速机,且减速机的前端安装有连接轴,所述连接轴的外侧连接有搅拌叶片,且搅拌叶片的外表面设置有扇叶孔,所述扇叶孔的内部连接有旋转轴,且旋转轴的外表面安装有扇叶,所述析出缸内底面设置有轴承,且析出缸的下端安装有安置板。该氧化铝生产用反应室采用吸音板、减速机、搅拌叶片、轴承、制冷机、齿轮盘、滚轴、减振板和气动装置的设计,能吸收噪音,能增加析出的速度,能减小冷却时间,能避免析出缸内平衡被打破,造成氢氧化铝晶体再次溶入溶液。

    一种高纯铝圆铸锭清洁抛光装置

    公开(公告)号:CN107186598A

    公开(公告)日:2017-09-22

    申请号:CN201710542992.4

    申请日:2017-07-05

    Abstract: 本发明公开了一种高纯铝圆铸锭清洁抛光装置,包括底板、底座和支架,所述底板上安装有第一电机,且第一电机的左端连接有转轴,所述转轴的左侧安置有第一固定盘,且第一固定盘和第二固定盘上均固定有橡胶垫块,所述底座的上方安装有底板,且底座的内部设置有粉尘箱,所述粉尘箱的下方安置有滚轮,所述底板的上端固定有液压柱,且液压柱的右侧设置有液压气缸,所述液压气缸的右端通过连接杆与第二固定盘相连接,所述支架的下方固定有液压柱,且支架的底端固定安装有第二电机,所述第二电机的下方连接有打磨刀具。该高纯铝圆铸锭清洁抛光装置可以将圆铸锭放置在第一固定盘与第二固定盘之间,通过液压气缸可以很好的对圆铸锭进行压紧固定。

    一种氧化铝半导体清洗装置

    公开(公告)号:CN106733821A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611065498.5

    申请日:2016-11-28

    CPC classification number: B08B3/022 B08B3/08 B08B5/023 B08B13/00 F26B3/30

    Abstract: 本发明公开了一种氧化铝半导体清洗装置,包括壳体、烘干室、排水管、电动机、清洗板和清洗液喷头,所述壳体右侧上方固定安装有操控装置,所述除尘室内部固定安装有除尘风机,所述烘干室固定安装于壳体上,所述排水管与壳体相连通,所述电动机通过传动皮带与输送带相连接,所述清洗板两端通过固定杆固定于传动皮带上,所述清洗槽内部设置有固定块,所述清洗液喷头和净水喷头上均安装有调节阀。该氧化铝半导体清洗装置设置有清洗板,清洗板上均匀的分布有清洗槽,清洗过程中,清洗掉的污浊物会从清洗槽底部流出,从而避免了清洗掉的污浊物重新附着到晶片表面造成二次污染,有效的提高了清洗效果,工作效率高。

    一种高纯氧化铝活性保持装置

    公开(公告)号:CN106516375A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201611092044.7

    申请日:2016-12-01

    CPC classification number: B65D25/34 B65D25/00 B65D47/06

    Abstract: 本发明公开了一种高纯氧化铝活性保持装置,包括密封盖、活动转盘、出粒口、上贯穿钮、侧边封边线、散压面、防水涂层、密封涂层、下侧边活性保持腔、上正面活性保持腔、上侧边活性保持腔、导流角、翻转顶面、下正面活性保持腔和下贯穿钮,所述密封盖的外围设置有活动转盘,且活动转盘的中间镶嵌有出粒口,所述上贯穿钮的下方固定有上侧边活性保持腔,所述侧边封边线的下方连接有散压面,所述导流角的下端连接有散压面,所述翻转顶面的下方固定有下正面活性保持腔,所述下贯穿钮的上方设置有下侧边活性保持腔。该高纯氧化铝活性保持装置整体结构简单新颖,是由多个三角形拼接组成的多边柱形筒状结构体,整体受力强度大,不易破损,耐坠力。

    一种氮化铝碳热还原法生产用原料输送装置

    公开(公告)号:CN107200311A

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201710543367.1

    申请日:2017-07-05

    CPC classification number: Y02P20/123 C01B21/0726

    Abstract: 本发明公开了一种氮化铝碳热还原法生产用原料输送装置,包括反应装置、漏斗盖、漏斗、密封装置和第一连接杆,所述反应装置上设置有耐高温过滤网和出料口,且漏斗盖与第二连接杆的连接方式为焊接,所述漏斗壁的表面设置有固定装置,所述出风口内部设置有扇叶,所述扇叶与连接轴相连接,所述连接轴与电动机相连接,所述电动机固定在支架上,所述支架焊接在反应装置的外表面上,所述出料口位于反应装置底部的右侧,所述第一连接杆与第二连接杆的连接方式为焊接。该氮化铝碳热还原法生产用原料输送装置设置有漏斗盖和密封装置,漏斗盖和密封装置是为了保证反应装置的密闭性,防止反应装置中热量的散失,提高热量的利用率,节省能源。

    一种高纯度纳米氧化铝C基板

    公开(公告)号:CN106486438A

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:CN201611074592.7

    申请日:2016-11-29

    CPC classification number: H01L23/473 H01L23/15 H01L23/3731

    Abstract: 本发明公开了一种高纯度纳米氧化铝C基板,包括基板、水流管道、检查盖板和旋转轴,所述基板上表面粘合有电路芯片,且电路芯片左右两端设有电路连接口,所述水流管道通过连接管道连接蓄水室,且蓄水室右侧装设有注水口,所述水泵存放室内装设有水泵,且水泵通过连接管道连接蓄水室和水流管道,所述水泵通过导线与电路芯片相连接,所述检查盖板右侧安装有开关,且检查盖板左端连接旋转轴。该高纯度纳米氧化铝C基板采用高纯度的纳米氧化铝作为基板的原料,不仅能够提高基板的导热性能,还能提高基板的绝缘性能,该设备电路芯片下表面还安装有水流管道,利用水冷吸热对基板进行降温工作,大大提高了该基板的导热、吸热效率。

    一种氮化硅粉末除杂设备

    公开(公告)号:CN209318163U

    公开(公告)日:2019-08-30

    申请号:CN201822260743.9

    申请日:2018-12-29

    Abstract: 本实用新型公开了一种氮化硅粉末除杂设备,包括外壳、丝杆、伺服电机、手动阀门和旋转电机,所述外壳的内部设置有过滤网,所述丝杆的一端固定于外壳的内侧,所述丝杆的外壁安装有滑板的中部,且滑板的边端通过限位杆与外壳的内壁相互连接,所述过滤网的底部和滑板的顶部均设置有固定块,所述外壳的底部连接有出料口,且出料口上安装有手动阀门,所述旋转电机安装于外壳的顶部,且旋转电机的底部连接有第三转轴的上端,并且第三转轴的下端位于外壳的内部,所述第三转轴的下端位于过滤网的上方,且第三转轴的外壁固定有搅拌板。该氮化硅粉末除杂设备,能够避免过滤网上的网孔被堵塞的可能性,且方便过滤网上杂质的取出。

    一种氮化铝生产用坩埚夹持装置

    公开(公告)号:CN209256714U

    公开(公告)日:2019-08-16

    申请号:CN201822256739.5

    申请日:2018-12-29

    Abstract: 本实用新型公开了一种氮化铝生产用坩埚夹持装置,包括固定杆、顶杆和握杆,所述固定杆上固定有顶杆,所述控制块上开设有活动槽,所述卡块固定在控制杆上,所述弹簧伸缩杆设置在控制块的内部,所述转槽开设在横杆上,所述滑套内部安装有夹持杆,且夹持杆上安装有工作转轴,并且工作转轴安装在控制块上,所述工作转轴上固定有固定片,且固定片内壁上固定有固定块,并且夹持杆上端安装有夹板。该氮化铝生产用坩埚夹持装置,采用了新型的结构设计,设计了方便握持功能的结构,解决了传统装置不方便握持的问题,设计了具有固定功能的结构,解决了传统装置不方便固定的问题,同时设计了具有夹持功能的结构,解决了传统装置功能单一的问题。

    一种方便对氮化铝基板进行存取的收纳装置

    公开(公告)号:CN209455254U

    公开(公告)日:2019-10-01

    申请号:CN201822256729.1

    申请日:2018-12-29

    Abstract: 用新型公开了一种方便对氮化铝基板进行存取的收纳装置,包括箱体和盖板,所述箱体的上表面后端设置有盖板,且箱体的内部设置有隔板,所述隔板的下方设置有顶板,且顶板的下表面固定安装有第一连接弹簧,并且顶板通过限位块与箱体的内壁相互连接,所述顶板通过连接板与推板固定连接,且推板位于箱体的外表面底部,所述推板的内部设置有推杆,且推杆的顶端凸出推板的上表面,所述推杆的底面设置有固定轴。该方便对氮化铝基板进行存取的收纳装置,该收纳装置通过顶板的伸缩运转进行对氮化铝基板的存取工作,从而便于将氮化铝基板收纳进箱体的内部进行存放,同时提高工作人员对氮化铝基板取出操作的便捷性。

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