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公开(公告)号：CN110389142A
公开(公告)日：2019-10-29
申请号：CN201910295269.X
申请日：2019-04-12
Applicant: 马尔文帕纳科公司
IPC: G01N23/20 , G01N23/20008 , G01N23/201 , G01N23/207
Abstract: 本申请涉及X射线分析设备和方法。一种X射线分析设备包括被配置成用入射X射线波束照射样品的X射线源。第一波束掩模部件被布置在X射线源和样品之间。第一波束掩模部件具有用于限制入射X射线波束的尺寸的第一开口。当第一波束掩模部件在第一配置中时，第一开口被布置在入射X射线波束中。第一波束掩模部件还包括第二开口。当第一波束掩模部件在第二配置中时，第二开口被布置在入射X射线波束中。第二开口不限制入射X射线波束的尺寸。控制器被配置成控制第一波束掩模部件致动器以通过在与入射X射线波束相交的平面中移动第一波束掩模部件来将第一波束掩模部件的配置在第一配置和第二配置之间进行改变。
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公开(公告)号：CN110376231A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201910280993.5
申请日：2019-04-09
Applicant: 马尔文帕纳科公司
IPC: G01N23/223 , G01N23/2206 , G01N23/207 , G01N23/20008
Abstract: 本申请涉及具有对光束发散度的混合控制的X射线分析装置及方法。该装置包括位于X射线源(4)和样品(6)之间的可调狭缝(210)；和可选地另一狭缝(220，220a)。控制器(17)被配置成在第一宽度、更大的第二宽度和甚至更大的第三宽度之间控制可调狭缝的宽度。在第一宽度和第二宽度下：可调狭缝(210)限制入射光束的发散度，从而限制样品的被照射区域；并且另一狭缝(220)不限制入射光束的发散度。在第三宽度下：可调狭缝(210)不限制入射光束的发散度，并且另一狭缝(220)限制入射光束的发散度，从而限制样品的被照射区域。或者，在第三宽度下，可调狭缝(210)继续限制被照射区域。
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公开(公告)号：CN110389143A
公开(公告)日：2019-10-29
申请号：CN201910300453.9
申请日：2019-04-15
Applicant: 马尔文帕纳科公司
IPC: G01N23/201 , G01N23/207 , G01N23/20008
Abstract: 本公开涉及但不限于X射线分析设备。所述设备包括用于支撑样本的样本台、具有旋转轴的测角仪和布置成绕测角仪的旋转轴可旋转的X射线检测器，其中X射线检测器布置成接收来自样本的沿着X射线束路径引导的X射线。X射线分析设备还包括均具有第一和第二配置的第一、第二和第三准直器。准直器在其第一配置中布置在X射线束路径中。准直器在其第二配置中布置在X射线束路径之外。第一致动器装置配置成通过在与X射线束路径相交的横向方向移动第一和第二准直器来在第一和第二配置之间移动第一和第二准直器。第二致动器装置配置成使第三准直器在其第一和第二配置之间移动。控制器配置成控制第一致动器装置以使第一准直器在第一和第二配置之间移动。
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公开(公告)号：CN105937890B
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201610119027.1
申请日：2016-03-03
Applicant: 马尔文帕纳科公司
Inventor： 查拉兰波斯·扎尔卡达斯 , 亚历山大·哈尔陈科 , 彼得罗内拉·埃米伦蒂安娜·赫格曼 , 米伦·加特什基 , 瓦尔瑟如斯·凡丹霍根霍夫 , 迪克·林凯珀
IPC: G01B15/02 , G01N23/223
Abstract: 本申请涉及定量X射线分析‑基体厚度校正。通过进行确定样本的元素成分的X射线荧光测量和通过测量处于能量E的X射线在没有偏转的情况下直接穿过样本透射的透射强度进行校正测量来实现定量X射线分析。通过以与样本的表面的入射角ψ1的条件下将处于能量E的X射线从X射线源引导到样本并在相应于预先确定的组分的X射线衍射峰值的出射角ψ2处使用X射线检测器测量在能量E处的衍射X射线的所测量的强度Id(θfl)来在透射中进行X射线衍射测量。使用在X射线衍射测量中的所测量的X射线强度、校正测量和根据元素成分计算的样本的质量衰减系数及元素的质量衰减系数来得到基体校正的X射线强度。
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公开(公告)号：CN108572184A
公开(公告)日：2018-09-25
申请号：CN201810190461.8
申请日：2018-03-08
Applicant: 马尔文帕纳科公司
IPC: G01N23/20 , G01N23/20008
CPC classification number: G01N23/20091 , G01N23/20008 , G01N2223/0563 , G01N2223/315 , G01N2223/5015 , G01N2223/62
Abstract: 本发明公开了高分辨率X射线衍射方法和装置。用于高分辨率测量的X射线衍射装置将具有小于50的原子序数Z的靶的X射线源的使用与具有像素阵列的能量分辨X射线探测器以及用于从X射线源选择K-β放射线并且用于将K-β放射线反射到样品上(在此K-β放射线被衍射到能量分辨X射线探测器上)的β放射线多层反射镜结合起来。样品可以具体地处于透射状态。样品可以是毛细管中的粉末样品。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118624652A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410274085.6
申请日：2024-03-11
Applicant: 马尔文帕纳科公司
IPC: G01N23/20008 , G01N23/20 , G01N23/207
Abstract: 本发明涉及一种用于分析样品的X射线分析装置以及X射线分析方法。X射线分析方法涉及使用样品和位置敏感的X射线检测器之间的第一狭缝来分析样品，该方法包括基于第一狭缝和X射线检测器之间的距离L1以及第一检测元件在检测元件阵列中的位置计算检测角度。X射线分析装置包括被配置为分析来自包括检测元件阵列的X射线检测器的数据的处理器。特别地，该处理器被配置为接收包括在检测元件阵列的第一检测元件处检测到的X射线强度的数据，并基于第一狭缝与X射线检测器之间的距离L1以及第一检测元件在检测元件阵列中的位置计算检测角度。
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公开(公告)号：CN110389143B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN201910300453.9
申请日：2019-04-15
Applicant: 马尔文帕纳科公司
IPC: G01N23/201 , G01N23/207 , G01N23/20008
Abstract: 本公开涉及但不限于X射线分析设备。所述设备包括用于支撑样本的样本台、具有旋转轴的测角仪和布置成绕测角仪的旋转轴可旋转的X射线检测器，其中X射线检测器布置成接收来自样本的沿着X射线束路径引导的X射线。X射线分析设备还包括均具有第一和第二配置的第一、第二和第三准直器。准直器在其第一配置中布置在X射线束路径中。准直器在其第二配置中布置在X射线束路径之外。第一致动器装置配置成通过在与X射线束路径相交的横向方向移动第一和第二准直器来在第一和第二配置之间移动第一和第二准直器。第二致动器装置配置成使第三准直器在其第一和第二配置之间移动。控制器配置成控制第一致动器装置以使第一准直器在第一和第二配置之间移动。
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公开(公告)号：CN108572184B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN201810190461.8
申请日：2018-03-08
Applicant: 马尔文帕纳科公司
IPC: G01N23/20 , G01N23/20008
Abstract: 本发明公开了高分辨率X射线衍射方法和装置。用于高分辨率测量的X射线衍射装置将具有小于50的原子序数Z的靶的X射线源的使用与具有像素阵列的能量分辨X射线探测器以及用于从X射线源选择K‑β放射线并且用于将K‑β放射线反射到样品上(在此K‑β放射线被衍射到能量分辨X射线探测器上)的β放射线多层反射镜结合起来。样品可以具体地处于透射状态。样品可以是毛细管中的粉末样品。
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公开(公告)号：CN113661389A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202080027081.8
申请日：2020-04-03
Applicant: 马尔文帕纳科公司
IPC: G01N23/20008 , G21K1/02
Abstract: 一种用在X射线分析设备(40)中的射束整形装置(10)。该射束整形装置处理来自X射线射束源(20)的输入射束(32)，并产生具有输出射束形状的输出射束(34)，用于辐照样本(112)，该样本由X射线分析设备的样本保持器(22)保持。根据样本(112)的倾斜角(χ)的改变来控制输出射束形状的移动，倾斜角由样本保持器(22)的倾斜位置来限定。
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公开(公告)号：CN115728329A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202211053916.4
申请日：2022-08-31
Applicant: 马尔文帕纳科公司
IPC: G01N23/20 , G01N23/223
Abstract: 本发明涉及适应性强的X射线分析装置。X射线分析装置使用户能够执行多个X射线分析应用，以分析样品。该装置包括用于用X射线照射样品的X射线源，X射线源包括固体阳极和用于发射电子束的阴极。该装置还包括控制器和用于将电子束聚焦到阳极上的聚焦装置。控制器被配置为接收X射线分析应用信息，并基于X射线分析应用信息来控制X射线分析装置选择性地在第一X射线分析模式或第二X射线分析模式下操作。在第一X射线分析模式下，X射线源以第一操作功率操作，并且具有小于100μm的有效焦斑大小。在第二X射线分析模式下，X射线源以高于第一操作功率的第二操作功率操作，并且有效焦斑的面积大于在第一X射线分析模式下的有效焦斑的面积。
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