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公开(公告)号：CN118116279A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202211521861.5
申请日：2022-11-30
Applicant: 高创(苏州)电子有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本公开提供一种显示装置，包括：发声显示屏，具有显示区和位于所述显示区周边的周边区；发声显示屏包括：显示面板和设置在显示面板上的发声层，所述发声层位于所述显示面板沿其厚度方向的一侧；所述发声层包括：振动层以及设置在振动层上的激励单元；第一壳体，其包括：前框和后壳，所述前框设置在所述发声显示屏的显示侧，且位于周边区；后壳设置在显示模组的非显示侧；第一粘结结构，包括第一缓冲层以及位于第一缓冲层两侧的第一粘结层和第二粘结层，第一粘结层与前框粘结，第二粘结层与发声显示屏粘结；第二粘结结构，包括第二缓冲层以及位于第二缓冲层两侧的第三粘结层和第四粘结层，第三粘结层与发声显示屏粘结，第四粘结层与后壳粘结。
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公开(公告)号：CN117170463A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202311196181.5
申请日：2023-09-15
Applicant: 高创(苏州)电子有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G06F1/16
Abstract: 本发明的提供了一种摄像头显示模组及包含其的显示装置，所述摄像头显示模组包括T‑con板以及T‑con板角度微调结构，所述摄像头显示模组的摄像头嵌入所述T‑con板上，所述T‑con板角度微调结构与所述T‑con板相连，用以调节所述T‑con板的角度。本发明的摄像头显示模组通过摄像头和显示器模组整合，在保留摄像头功能的前提下极大满足了笔记本电脑上侧窄边框设计需求；同时，T‑con板与显示屏为软板连接，通过拨片搭接设计可以实现实时的摄像头角度上下调节的需求。
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公开(公告)号：CN220323809U
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202321249644.5
申请日：2023-05-22
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 高创(苏州)电子有限公司
IPC: G06F1/16
Abstract: 本实用新型公开了一种终端设备，终端设备包括设备主体、摄像组件和推动组件，设备主体具有安装部，且设备主体形成有与安装部间隔设置的容纳腔；摄像组件可拆卸地安装于安装部，且摄像组件被构造成在适于安装于安装部的使用位置和适于收纳于容纳腔的收纳位置之间切换，在使用位置，摄像组件能与设备主体通信；推动组件构造成被触发时推动摄像组件离开收纳位置，以使摄像组件的至少部分伸出容纳腔外。根据本实用新型的终端设备，方便收取摄像组件，提高用户的使用便利性，且有利于保护用户隐私。
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公开(公告)号：CN217386244U
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202220635741.7
申请日：2022-03-22
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 高创(苏州)电子有限公司
Abstract: 本实用新型涉及一种脚垫结构及具有其的电子设备。该脚垫结构应用于电子设备，包括脚垫和驱动部件，所述驱动部件用于驱动所述脚垫相对于所述电子设备的壳体伸缩，所述驱动部件安装于所述壳体内，所述驱动部件包括第一部件、第二部件和弹性件，所述第一部件的一端与所述电子设备的第一转轴活动连接，所述第二部件的一端活动安装于所述壳体内，所述第二部件的另一端与所述第一部件的另一端相向设置，所述脚垫与所述第二部件固定连接，所述弹性件与所述第二部件连接，所述第一转轴转动能够带动所述第一部件水平移动作用于所述第二部件，并通过所述弹性件的弹性作用，带动所述脚垫伸缩。
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公开(公告)号：CN103695860A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201310753412.8
申请日：2013-12-31
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开的真空反应腔以及真空加工设备，其中，本发明的真空反应腔，包括多个壁板，多个壁板中至少一个壁板上设置有观察装置，观察装置包括设置于壁板上的观察窗以及用于遮挡观察窗的遮挡板，遮挡板可在遮挡观察窗的第一位置以及不遮挡观察窗的第二位置之间运动。本发明的真空加工设备，包括本发明的真空反应腔。本发明的真空反应腔以及本发明的真空加工设备，遮挡板既保护观察窗，还有效遮挡观察窗四周的壁板。本发明的真空反应腔以及本发明的真空加工设备可以有效保护观察窗，延长其寿命，并有效保证观测效果；同时遮挡板也保护了观察窗四周的壁板——即壁板上的最易被刻蚀区域，使得壁板整体寿命延长，减少高频维护的费用和人力损失。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103715113B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201310688786.6
申请日：2013-12-13
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L21/66 , H01J37/244
Abstract: 本发明公开了一种刻蚀速率均一度的监测方法和装置，以实现实时对腔体内等离子体刻蚀速率均一度的监测。所述方法包括：在刻蚀过程中，实时采集刻蚀的反应腔体内反应物或生成物的光谱信号的强度值；根据所述光谱信号的强度值，确定所述反应物或生成物光谱信号的强度值变化阶段对应的起始时间和终止时间；根据所述起始时间、终止时间以及预设的被刻蚀膜层的厚度，确定刻蚀速率的最大值和最小值；根据所述刻蚀速率的最大值和最小值确定刻蚀速率的均一度。
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公开(公告)号：CN103695860B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201310753412.8
申请日：2013-12-31
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开的真空反应腔以及真空加工设备，其中，本发明的真空反应腔，包括多个壁板，多个壁板中至少一个壁板上设置有观察装置，观察装置包括设置于壁板上的观察窗以及用于遮挡观察窗的遮挡板，遮挡板可在遮挡观察窗的第一位置以及不遮挡观察窗的第二位置之间运动。本发明的真空加工设备，包括本发明的真空反应腔。本发明的真空反应腔以及本发明的真空加工设备，遮挡板既保护观察窗，还有效遮挡观察窗四周的壁板。本发明的真空反应腔以及本发明的真空加工设备可以有效保护观察窗，延长其寿命，并有效保证观测效果；同时遮挡板也保护了观察窗四周的壁板——即壁板上的最易被刻蚀区域，使得壁板整体寿命延长，减少高频维护的费用和人力损失。
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公开(公告)号：CN103715113A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201310688786.6
申请日：2013-12-13
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L21/66 , H01J37/244
CPC classification number: H01L22/26 , H01L21/67253
Abstract: 本发明公开了一种刻蚀速率均一度的监测方法和装置，以实现实时对腔体内等离子体刻蚀速率均一度的监测。所述方法包括：在刻蚀过程中，实时采集刻蚀的反应腔体内反应物或生成物的光谱信号的强度值；根据所述光谱信号的强度值，确定所述反应物或生成物光谱信号的强度值变化阶段对应的起始时间和终止时间；根据所述起始时间、终止时间以及预设的被刻蚀膜层的厚度，确定刻蚀速率的最大值和最小值；根据所述刻蚀速率的最大值和最小值确定刻蚀速率的均一度。
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公开(公告)号：CN203465489U
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201320512778.1
申请日：2013-08-21
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/13
Abstract: 本实用新型提供一种基板的承载机构，属于显示面板的制造技术领域，其可解决现有的升降杆在举升玻璃基板时可能导致玻璃基板发生破片进而划伤生产设备的问题。本实用新型的基板的承载机构包括至少一个能进行升降的升降杆，所述升降杆包括用于支撑基板的支撑杆，其中，所述承载机构还包括：传感器，其用于检测所述支撑杆受到的压力；信号分析单元，其与所述传感器相连，用于根据所述传感器的检测结果分析并判断基板是否发生破片。本实用新型可使升降杆在举升基板时避免发生破片的基板划伤生产设备。
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公开(公告)号：CN202316456U
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201120481251.8
申请日：2011-11-28
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种等离子清洗设备，涉及玻璃基板清洗技术领域，解决了由于等离子清洗设备采用一单体中空阳极离子源实现基板的清洗，所述单体中空阳极离子源口径小，外层喷射离子束流耗散严重，造成等离子清洗设备只能应用在科研实验中的硅片等小尺寸基板的清洗中的问题。本实用新型提供的等离子清洗设备，包括承重板、设置在所述承重板第一表面上的第一密封罩内均匀分布的多个中空阳极离子源，设置在所述承重板第二表面上的第二密封罩内的工作气体管道，所述工作气体管道穿过所述承重板与其对应的中空阳极离子源连接。本实用新型可以应用在玻璃基板制造领域，如高世代玻璃基板的制造。
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