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公开(公告)号：CN106028495A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610380205.6
申请日：2010-05-12
Applicant: 高知有限公司
Inventor： 亚历山大·比尔钦斯基 , 艾兰·本-什穆尔 , 平夏斯·艾恩齐格 , 阿米特·拉贝尔
CPC classification number: H05B6/705 , H05B1/02 , H05B6/00 , H05B6/6447 , H05B6/6455 , H05B6/68 , H05B6/686 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 用于施加EM能量到负载的设备和方法。该设备和方法包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示对于多个调制空间元素中的每一个由负载所耗散的能量的信息。该处理器还可以被配置为基于所接收的信息将该多个调制空间元素中的每一个与功率应用的相应的持续时间相关联。该处理器可以进一步被配置为调节施加到负载的能量以便对于该多个调制空间元素而言在功率应用的相应的持续时间施加功率到负载。
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公开(公告)号：CN102598851B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201080050439.5
申请日：2010-05-12
Applicant: 高知有限公司
Inventor： 亚历山大·比尔钦斯基 , 艾兰·本-什穆尔 , 丹妮拉·阿兹莫尼 , 平夏斯·艾恩齐格 , 阿米特·拉贝尔
IPC: H05B6/68
CPC classification number: H05B6/705 , H05B1/02 , H05B6/00 , H05B6/6447 , H05B6/6455 , H05B6/68 , H05B6/686 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 施加EM能量到负载的设备可以包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示针对多个调制空间元素中的每一个的耗散能量的信息，并且基于所接收的指示耗散能量的信息将若干该多个调制空间元素分组为至少两个子集。该处理器还可以被配置为将一种功率输送协议与该至少两个子集中的每一个相关联，其中该功率输送协议在子集之间不同并且根据每个功率输送协议调节施加到负载的能量。
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公开(公告)号：CN106028495B
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201610380205.6
申请日：2010-05-12
Applicant: 高知有限公司
Inventor： 亚历山大·比尔钦斯基 , 艾兰·本-什穆尔 , 平夏斯·艾恩齐格 , 阿米特·拉贝尔
Abstract: 用于施加EM能量到负载的设备和方法。该设备和方法包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示对于多个调制空间元素中的每一个由负载所耗散的能量的信息。该处理器还可以被配置为基于所接收的信息将该多个调制空间元素中的每一个与功率应用的相应的持续时间相关联。该处理器可以进一步被配置为调节施加到负载的能量以便对于该多个调制空间元素而言在功率应用的相应的持续时间施加功率到负载。
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公开(公告)号：CN105407565A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201510817671.1
申请日：2011-05-03
Applicant: 高知有限公司
IPC: H05B6/68
CPC classification number: H05B6/705 , H05B1/02 , H05B6/00 , H05B6/6447 , H05B6/6455 , H05B6/68 , H05B6/686 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 本申请涉及模态分析。在此披露了用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加电磁能的设备以及方法。至少一个处理器可以被配置为确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置。另外，该处理器可以被配置为对一个来源进行调节以便向该能量施加带中的该第一区施加第一预定量的RF能量并且向该能量施加带中的该第二区施加第二预定量的RF能量。该第一预定能量量值可以不同于该第二预定能量量值。
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公开(公告)号：CN104219810A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201410419956.5
申请日：2009-11-10
Applicant: 高知有限公司
Inventor： 亚历山大·比尔钦斯基 , 艾兰·本-什穆尔 , 丹妮拉·阿兹莫尼
IPC: H05B6/80
CPC classification number: H05B6/68 , H05B6/6447 , H05B6/664 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/705 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 本发明涉及使用RF能量进行加热的设备和方法。描述了一种使用RF加热器进行加热和/或融化的方法。在一些情况下，所述加热按照其耗散率有差别地对一些部分进行加热。可选择地，这避免了将大量能量耗散到已融化的部分中，同时仍存在冻结部分并且加热缓慢。可选择地，这防止了对已融化部分的过度加热。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105407565B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201510817671.1
申请日：2011-05-03
Applicant: 高知有限公司
IPC: H05B6/68
CPC classification number: H05B6/705 , H05B1/02 , H05B6/00 , H05B6/6447 , H05B6/6455 , H05B6/68 , H05B6/686 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 本申请涉及模态分析。在此披露了用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加电磁能的设备以及方法。至少一个处理器可以被配置为确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置。另外，该处理器可以被配置为对一个来源进行调节以便向该能量施加带中的该第一区施加第一预定量的RF能量并且向该能量施加带中的该第二区施加第二预定量的RF能量。该第一预定能量量值可以不同于该第二预定能量量值。
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公开(公告)号：CN102597792B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201080050438.0
申请日：2010-05-12
Applicant: 高知有限公司
Inventor： 亚历山大·比尔钦斯基 , 艾兰·本-什穆尔 , 平夏斯·艾恩齐格 , 阿米特·拉贝尔
IPC: G01R29/10
CPC classification number: H05B6/705 , H05B1/02 , H05B6/00 , H05B6/6447 , H05B6/6455 , H05B6/68 , H05B6/686 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 用于施加EM能量到负载的设备和方法。该设备和方法包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示对于多个调制空间元素中的每一个由负载所耗散的能量的信息。该处理器还可以被配置为基于所接收的信息将该多个调制空间元素中的每一个与功率应用的相应的持续时间相关联。该处理器可以进一步被配置为调节施加到负载的能量以便对于该多个调制空间元素而言在功率应用的相应的持续时间施加功率到负载。
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公开(公告)号：CN102597792A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080050438.0
申请日：2010-05-12
Applicant: 高知有限公司
Inventor： 亚历山大·比尔钦斯基 , 艾兰·本-什穆尔 , 平夏斯·艾森格 , 阿米特·拉贝尔
IPC: G01R29/10
CPC classification number: H05B6/705 , H05B1/02 , H05B6/00 , H05B6/6447 , H05B6/6455 , H05B6/68 , H05B6/686 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 用于施加EM能量到负载的设备和方法。该设备和方法包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示对于多个调制空间元件中的每一个由负载所耗散的能量的信息。该处理器还可以被配置为基于所接收的信息将该多个调制空间元件中的每一个与功率应用的相应的持续时间相关联。该处理器可以进一步被配置为调节施加到负载的能量以便对于该多个调制空间元件而言在功率应用的相应的持续时间施加功率到负载。
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公开(公告)号：CN104219810B
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201410419956.5
申请日：2009-11-10
Applicant: 高知有限公司
Inventor： 亚历山大·比尔钦斯基 , 艾兰·本-什穆尔 , 丹妮拉·阿兹莫尼
IPC: H05B6/80
CPC classification number: H05B6/68 , H05B6/6447 , H05B6/664 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/705 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 本发明涉及使用RF能量进行加热的设备和方法。描述了一种使用RF加热器进行加热和/或融化的方法。在一些情况下，所述加热按照其耗散率有差别地对一些部分进行加热。可选择地，这避免了将大量能量耗散到已融化的部分中，同时仍存在冻结部分并且加热缓慢。可选择地，这防止了对已融化部分的过度加热。
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公开(公告)号：CN103004287B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201180030216.7
申请日：2011-05-03
Applicant: 高知有限公司
Inventor： 平夏斯·艾恩齐格 , 艾兰·本-什穆尔 , 亚历山大·比尔钦斯基 , 阿米特·拉贝尔
IPC: H05B6/64
CPC classification number: H05B6/68 , B01J19/126 , B01J19/129 , B01J2219/0871 , B01J2219/1203 , B01J2219/1206 , F26B3/347 , G01S13/89 , H05B6/64 , H05B6/6447 , H05B6/686 , H05B6/70 , H05B6/705 , H05B6/72 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 在此披露了一种用于将电磁能施加到能量施加带中的物体上的设备和方法。至少一个处理器可被配置为使电磁能以多个电磁场场图被施加给该能量施加带中的该物体。该处理器可进一步被配置为针对该多个场图中的每一者而确定在该能量施加带耗散的功率量值。该处理器也可被配置为基于当该多个场图施加到该能量施加带时耗散的功率量值而确定该能量施加带的至少一部分上的能量吸收特性的空间分布。
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