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公开(公告)号:CN118922920A
公开(公告)日:2024-11-08
申请号:CN202380029909.7
申请日:2023-03-20
Applicant: 国立大学法人东海国立大学机构 , AGC株式会社
Abstract: 本发明涉及一种带有β型氧化镓膜的基板,具有Si单晶基板和设置于上述Si单晶基板上的β型氧化镓膜,上述β型氧化镓膜呈单轴取向。
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公开(公告)号:CN118922921A
公开(公告)日:2024-11-08
申请号:CN202380029994.7
申请日:2023-03-20
Applicant: 国立大学法人东海国立大学机构 , AGC株式会社
IPC: H01L21/365 , C23C14/08 , C23C16/40 , C30B29/16
Abstract: 本发明提供一种使结晶性优异且平坦性优异的氧化镓外延生长的氧化镓膜的制造装置。制造装置(1000)具有:反应室(1100)、位于反应室(1100)的内部的基板配置部(1200)、向基板配置部(1200)供给Ga的镓元素供给装置(1300)、向基板配置部(1200)供给氧构成粒子的氧元素供给装置(1400)、以及向氧元素供给装置(1400)供给包含氧和臭氧的混合气体的混合气体供给装置(1800)。氧元素供给装置(1400)具有将混合气体等离子体化的等离子体产生部。
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