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公开(公告)号:CN117120576A
公开(公告)日:2023-11-24
申请号:CN202280025867.5
申请日:2022-02-25
Applicant: AGC株式会社
Inventor: 国府田一麦 , 宇野诚人 , 松浦启吾 , 德永能仁 , 小野崎祐 , 长谷川刚 , 太田有羽 , 江口创 , 诹访久美子 , 高平祐介
IPC: C09K3/18
Abstract: 一种表面处理剂,其包含选自由下式(A1)及下式(A2)所示的含氟化合物组成的组中的1种以上。式(A1):(G(A2)(‑NHR1‑):Ca(R)1b3QB。1HN(‑‑N)HRb2QA2)‑b1G2。‑式Q3