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公开(公告)号：CN112639621B
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN201980057270.7
申请日：2019-08-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： D·M·斯劳特布姆 , H·T·海梅里克斯 , J·罗伊萨里瓦斯 , J·科塔尔
IPC: G03F7/20
Abstract: 根据本发明的一方面，提供一种对横跨用于将图案曝光至衬底上的图案形成装置扫描光子束或粒子束的步骤进行配置的方法，其中所述方法包括：确定被配置成改善所述曝光的品质的图案化校正的空间分辨率；和基于所确定的所述图案化校正的空间分辨率来确定所述束的空间尺寸。
公开(公告)号：CN112639621A
公开(公告)日：2021-04-09
