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公开(公告)号：CN114174928A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202080049943.7
申请日：2020-06-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·A·范德凯克霍夫 , M·兰简
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括用于在隔间中支撑结构的衬底台，所述隔间具有隔间表面，所述隔间表面在至少一个操作配置中面向所述衬底的顶表面；以及在所述隔间表面上用于捕获颗粒的软涂层。还公开了一种用于光刻设备的热屏蔽件或其部件以及包括这种热屏蔽件的光刻设备，所述热屏蔽件或其部件在至少一个表面上包括用于捕获颗粒的软涂层。
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