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公开(公告)号：CN117529691A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202280044013.1
申请日：2022-06-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·哈特格斯 , M·M·L·斯特格斯 , G·H·P·M·斯温克尔斯 , G·艾姆波内特 , N·W·M·普兰茨 , W·J·恩格伦 , M·A·范德凯克霍夫
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于成像系统以确定成像系统的照射光束的两个光学特性的板，成像系统被配置为用照射光束照射照射区域，板包括多个标记，其中多个标记的第一子集包括用于确定照射光束的第一光学特性的第一类型标记，多个标记的第二子集包括用于确定照射光束的第二光学特性的第二类型标记，多个标记位于板的标记区域内，并且标记区域大体上对应于照射区域。
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