磁盘
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101371301A

    公开(公告)日:2009-02-18

    申请号:CN200780002982.6

    申请日:2007-01-22

    Abstract: 本发明提供在10nm以下的极低上浮量下也能够防止静摩擦力故障、腐蚀故障等,具有耐热性优异且密合性高的润滑层的磁盘。此外,本发明提供具有温度特性良好的润滑层,在宽范围的温度条件下也显示出稳定的动作的磁盘。本发明的磁盘是在基板1上具有磁性层3和碳系保护层4和润滑层5的磁盘,上述润滑层5含有磁盘用润滑剂,该磁盘用润滑剂由一个分子中具有磷腈环和2个以上的羟基和/或羧基的化合物组成。

    磁记录盘及其制造方法
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1311430C

    公开(公告)日:2007-04-18

    申请号:CN200410006706.5

    申请日:2004-01-29

    Inventor: 下川贡一

    CPC classification number: G11B5/725 B32B27/28 G11B5/8408 Y10T428/3154

    Abstract: 一种磁记录盘,具有高粘附的润滑层,其可以在12纳米或更小的极低飞行高度下操作而没有故障,并且能够防止在高速转动下发生迁移,该磁盘包括基片、在该基片上形成的磁性层、在该磁性层上形成的保护层和在该保护层上形成的润滑层,该润滑层含化合物(A)和化合物(B),化合物(A)具有见右下式(1),其中,p和q中的每一个都是1或更大的整数,和化合物(B)具有全氟聚醚主链,该主链具有两个含碳原子或氧原子的端部,含羟基的烃基与这两个端部连接,所述烃基任选地含醚键,并提供其制造方法。

    磁盘及其制造方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1571017A

    公开(公告)日:2005-01-26

    申请号:CN200410032656.8

    申请日:2004-03-31

    Abstract: 公开了一种制造磁盘的方法,该磁盘在其基底上具有磁性层、保护层和润滑层。该方法中,将润滑剂α进行分子量分级,以制备重均分子量(Mw)为3000~7000、且分子量离差小于或等于1.2的润滑剂a,该润滑剂α含有由化学式HO-CH2-CH(OH)-CH2-O-CH2-CF2(-O-C2F4)p-(O-CF2)q-O-CF2-CH2-O-CH2-CH(OH)-CH2-OH表示的化合物,其中的p和q为自然数,和由化学式HO-CH2-CF2(-O-C2F4)m-(O-CF2)n-O-CF2-CH2-OH表示的化合物,其中的m和n为自然数;将润滑剂β进行分子量分级,以制备重均分子量(Mw)为2000~5000、且分子量离差小于或等于1.2的润滑剂b,该润滑剂β含有由化学式HO-CH2-CF2(-O-C2F4)m-(O-CF2)n-O-CF2-CH2-OH表示的化合物,其中的m和n为自然数;制备含有润滑剂a和b的混合物的润滑剂c;并在施加在基底上的保护层上形成润滑剂c的膜,以形成润滑层。还公开了一种磁盘,该磁盘在其基底上具有磁性层、保护层和润滑层,其中润滑层在保护层上形成。

    磁记录盘及其制造方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1542747A

    公开(公告)日:2004-11-03

    申请号:CN200410006706.5

    申请日:2004-01-29

    Inventor: 下川贡一

    CPC classification number: G11B5/725 B32B27/28 G11B5/8408 Y10T428/3154

    Abstract: 一种磁记录盘,具有高粘附的润滑层,其可以在12纳米或更小的极低飞行高度下操作而没有故障,并且能够防止在高速转动下发生迁移,该磁盘包括基片、在该基片上形成的磁性层、在该磁性层上形成的保护层和在该保护层上形成的润滑层,该润滑层含化合物(A)和化合物(B),化合物(A)具有上述Ⅰ式,其中,p和q中的每一个都是1或更大的整数,和化合物(B)具有全氟聚醚主链,该主链具有两个含碳原子或氧原子的端部,含羟基的烃基与这两个端部连接,所述烃基任选地含醚键,并提供其制造方法。

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