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公开(公告)号：CN102086095B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201010552393.9
申请日：2007-03-15
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 岩田胜行
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C21/002
Abstract: 本发明提供了一种具有化学增强工序的磁盘用玻璃衬底的制造方法以及磁盘的制造方法，该方法所提供的磁盘用玻璃衬底可以抑制在化学增强工序后的玻璃衬底冷却时产生的微小波纹，并防止磁头碰撞以及热不均匀这样的问题，同时还可以谋求磁头的低飞行高度化，并实现高密度信息记录，特别是适合应用于便携信息设备用的小型磁盘。在化学增强工序后的冷却工序中，进行使玻璃衬底与熔解有固化温度低于化学增强盐的物质的处理液接触的冷却处理。该处理液的温度被调整为低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度。
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公开(公告)号：CN101356134A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200780001226.1
申请日：2007-03-15
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 岩田胜行
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C21/002
Abstract: 本发明提供了一种具有化学增强工序的磁盘用玻璃衬底的制造方法以及磁盘的制造方法，该方法所提供的磁盘用玻璃衬底可以抑制在化学增强工序后的玻璃衬底冷却时产生的微小波纹，并防止磁头碰撞以及热不均匀这样的问题，同时还可以谋求磁头的低飞行高度化，并实现高密度信息记录，特别是适合应用于便携信息设备用的小型磁盘。在化学增强工序后的冷却工序中，进行使玻璃衬底与熔解有固化温度低于化学增强盐的物质的处理液接触的冷却处理。该处理液的温度被调整为低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度。
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公开(公告)号：CN105431904A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201480042395.X
申请日：2014-09-18
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , C03C3/078 , C03C21/002 , G11B5/8404
Abstract: 磁盘用玻璃基板含有以摩尔％表示0.1％～1％的Li2O作为玻璃组分。该玻璃基板的破坏韧性值KIC[MPa·m1/2]是1[MPa·m1/2]以上。在玻璃基板表面设置有基于化学强化的压缩应力层，所述压缩应力层的深度D[μm]满足D≥57·KIC-1.6、且D≥20[μm]。该玻璃基板通过调整化学强化处理的条件来获得。
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公开(公告)号：CN103493133A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201180061379.1
申请日：2011-12-21
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/7315
Abstract: 本发明的一个方式涉及磁记录介质用玻璃基板，该玻璃基板由玻璃转化温度为600℃以上，100℃-300℃下的平均线膨胀系数为70×10-7/℃以上，杨氏模量为81GPa以上，比弹性模量为30MNm/kg以上，并且断裂韧性值为0.9MPa·m1/2以上的玻璃构成。
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公开(公告)号：CN1880254A
公开(公告)日：2006-12-20
申请号：CN200610093004.4
申请日：2006-06-02
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: C03C21/002 , C03C19/00 , G11B5/7315 , G11B5/8404
Abstract: 在包括化学强化工序的磁盘用玻璃基板的制造方法中，在玻璃基板的主表面的整个面上充分地进行化学强化处理，谋求磁头的低浮起化，提供可以进行高密度信息记录，特别是，很适合用于便携式信息设备用的小型的硬盘驱动器的磁盘用玻璃基板。在使化学强化处理液和玻璃基板接触以进行离子交换的化学强化工序中，使化学强化处理液相对于玻璃基板流动，或者，使玻璃基板相对于化学强化处理液移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102086095A
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：CN201010552393.9
申请日：2007-03-15
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 岩田胜行
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C21/002
Abstract: 本发明提供了一种具有化学增强工序的磁盘用玻璃衬底的制造方法以及磁盘的制造方法，该方法所提供的磁盘用玻璃衬底可以抑制在化学增强工序后的玻璃衬底冷却时产生的微小波纹，并防止磁头碰撞以及热不均匀这样的问题，同时还可以谋求磁头的低飞行高度化，并实现高密度信息记录，特别是适合应用于便携信息设备用的小型磁盘。在化学增强工序后的冷却工序中，进行使玻璃衬底与熔解有固化温度低于化学增强盐的物质的处理液接触的冷却处理。该处理液的温度被调整为低于化学增强工序中的化学增强盐熔液的温度。
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公开(公告)号：CN101689376A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200880022948.X
申请日：2008-09-26
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , C03C21/002 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板，具有主表面及端面，为实施了化学强化处理的圆盘状，其特征在于，上述主表面的最表面部应力层压入长度为49.1μm以下，在巴比涅补偿器法的应力曲线图中，在将上述主表面和压缩应力之间所形成的角设为θ时，{12·t·ln(tanθ)+(49.1/t)}的值y为上述最表面部应力层压入长度以下。
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公开(公告)号：CN101356135A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200780001242.0
申请日：2007-09-12
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , C03C17/008 , C03C21/001 , C03C21/002 , C03C21/005 , G11B5/8404
Abstract: 提供在化学强化工序后的冷却工序中抑制玻璃基板上产生的微小起伏，具有极平滑的主表面的磁盘用玻璃基板的制造方法，以及防止磁头碰撞、热致凹凸故障等，并且实现磁头的低上浮量化，可以高密度记录的磁盘的制造方法。磁盘用玻璃基板的制造方法，其包含对使化学强化盐加热熔解了的化学强化盐熔解液加热并将玻璃基板浸渍，使玻璃基板中的金属离子和化学强化盐的金属离子进行离子交换的化学强化工序，其中，使用直至降低到如下温度，熔解的化学强化盐不凝固的化学强化盐熔解液，进行化学强化工序，所述温度为玻璃基板的硬度达到附着在该玻璃基板上的化学强化盐凝固时给予该玻璃基板的力不会使该玻璃基板的表面形状变形的硬度的温度。
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公开(公告)号：CN105431904B
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201480042395.X
申请日：2014-09-18
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , C03C3/078 , C03C21/002 , G11B5/8404
Abstract: 磁盘用玻璃基板含有以摩尔％表示0.1％～1％的Li2O作为玻璃组分。该玻璃基板的破坏韧性值KIC[MPa·m1/2]是1[MPa·m1/2]以上。在玻璃基板表面设置有基于化学强化的压缩应力层，所述压缩应力层的深度D[μm]满足D≥57·KIC‑1.6、且D≥20[μm]。该玻璃基板通过调整化学强化处理的条件来获得。
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公开(公告)号：CN101689376B
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN200880022948.X
申请日：2008-09-26
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , C03C21/002 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板，具有主表面及端面，为实施了化学强化处理的圆盘状，其特征在于，上述主表面的最表面部应力层压入长度为49.1μm以下，在巴比涅补偿器法的应力曲线图中，在将表示上述主表面的线和表示压缩应力的应力轮廓线之间所形成的角设为θ时，上述最表面部应力层压入长度为{12·t·ln(tanθ)+(49.1/t)}的值y以下。
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