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公开(公告)号：CN102473423A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201180002382.6
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C23/0075
Abstract: 本发明的一个目的是在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，将附着在玻璃基板表面的金属系污染物质有效地除去。在具有玻璃基板清洗工序的磁盘用玻璃基板的制造方法中，设置有这样的清洗工序：该清洗工序具有使玻璃基板与浓度为0.05重量％～2重量％的添加有葡糖酸盐的pH9～11的碱性水溶液相接触的清洗处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102473423B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201180002382.6
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C23/0075
Abstract: 本发明的一个目的是在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，将附着在玻璃基板表面的金属系污染物质有效地除去。在具有玻璃基板清洗工序的磁盘用玻璃基板的制造方法中，设置有这样的清洗工序：该清洗工序具有使玻璃基板与浓度为0.05重量％～2重量％的添加有葡糖酸盐的pH9～11的碱性水溶液相接触的清洗处理。
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公开(公告)号：CN102473425A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201180002384.5
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C23/0075
Abstract: 本发明的一个目的是在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，将附着在玻璃基板表面的金属系污染物质有效地除去。在磁盘用玻璃基板的制造方法中，设置有这样的清洗工序：该清洗工序具有使玻璃基板与包含过二硫酸盐的pH2～4的清洗液相触的处理。另外，作为清洗液的一例，可以通过在酸性溶液中添加过二硫酸钠来制作。
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公开(公告)号：CN102473424B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201180002383.0
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C23/0075
Abstract: 本发明的一个目的是在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，将附着在玻璃基板表面的金属系污染物质有效地除去。在具有玻璃基板清洗工序的磁盘用玻璃基板的制造方法中，设置有这样的清洗工序：该清洗工序具有使玻璃基板与包含草酸和二价铁离子的pH为2～4的清洗液相接触的处理。对于二价铁离子来说，将硫酸亚铁(II)铵、硫酸亚铁(II)和草酸亚铁(II)等添加到草酸中。
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公开(公告)号：CN102473425B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201180002384.5
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C23/0075
Abstract: 本发明的一个目的是在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，将附着在玻璃基板表面的金属系污染物质有效地除去。在磁盘用玻璃基板的制造方法中，设置有这样的清洗工序：该清洗工序具有使玻璃基板与包含过二硫酸盐的pH2～4的清洗液相触的处理。另外，作为清洗液的一例，可以通过在酸性溶液中添加过二硫酸钠来制作。
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公开(公告)号：CN102473424A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201180002383.0
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C23/0075
Abstract: 本发明的一个目的是在磁盘用玻璃基板中，在不增大玻璃基板表面的粗糙度的情况下，将附着在玻璃基板表面的金属系污染物质有效地除去。在具有玻璃基板清洗工序的磁盘用玻璃基板的制造方法中，设置有这样的清洗工序：该清洗工序具有使玻璃基板与包含草酸和二价铁离子的pH为2～4的清洗液相接触的处理。对于二价铁离子来说，将硫酸亚铁(II)铵、硫酸亚铁(II)和草酸亚铁(II)等添加到草酸中。
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