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公开(公告)号：CN102693732B
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201210196739.5
申请日：2009-10-05
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C03C2204/08
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具备使用固定磨粒将主表面为镜面的镜面板玻璃加工为必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，具备在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，将所述镜面板玻璃表面通过磨砂加工进行表面粗糙化的表面粗糙化工序。
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公开(公告)号：CN102177546B
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN200980139523.1
申请日：2009-10-05
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C03C2204/08
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具备使用固定磨粒将主表面为镜面的镜面板玻璃加工为必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，具备在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，将所述镜面板玻璃表面通过磨砂加工进行表面粗糙化的表面粗糙化工序。
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公开(公告)号：CN102737654A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210098816.3
申请日：2012-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: B24B37/044 , B08B3/04 , B08B3/12 , B24B37/08 , C09G1/02 , C09K3/1409 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法。该磁盘用玻璃基板的制造方法可以以低成本制造高品质的玻璃基板，该高品质的玻璃基板可以进一步降低基板主表面的粗糙度，并且与以往产品相比可以更加降低由杂质附着等而造成的表面缺陷，对基板表面品质的要求比以往更加严格，可以用作新一代的基板。在磁盘用玻璃基板的制造方法中，使用含有胶体二氧化硅磨粒作为抛光磨粒的抛光液和配备有抛光垫的平板，对玻璃基板的主表面进行抛光，然后，使所述玻璃基板与含有凝集剂的液体接触，由此使所述胶体二氧化硅磨粒凝集并除去。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102693732A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN201210196739.5
申请日：2009-10-05
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C03C2204/08
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具备使用固定磨粒将主表面为镜面的镜面板玻璃加工为必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，具备在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，将所述镜面板玻璃表面通过磨砂加工进行表面粗糙化的表面粗糙化工序。
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公开(公告)号：CN102737654B
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201210098816.3
申请日：2012-03-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: B24B37/044 , B08B3/04 , B08B3/12 , B24B37/08 , C09G1/02 , C09K3/1409 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法。该磁盘用玻璃基板的制造方法可以以低成本制造高品质的玻璃基板，该高品质的玻璃基板可以进一步降低基板主表面的粗糙度，并且与以往产品相比可以更加降低由杂质附着等而造成的表面缺陷，对基板表面品质的要求比以往更加严格，可以用作新一代的基板。在磁盘用玻璃基板的制造方法中，使用含有胶体二氧化硅磨粒作为抛光磨粒的抛光液和配备有抛光垫的平板，对玻璃基板的主表面进行抛光，然后，使所述玻璃基板与含有凝集剂的液体接触，由此使所述胶体二氧化硅磨粒凝集并除去。
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公开(公告)号：CN102812514B
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201180015015.X
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 铃木阳介
CPC classification number: G11B5/8412 , B08B3/12 , B24B37/042 , C03C19/00 , C03C23/0075 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其目的之一在于，即使在玻璃基板的抛光工序中使用粒径小的抛光磨粒、且在抛光工序后的超声波洗涤工序中以高频率进行超声波处理的情况下，也可有效除去玻璃基板表面的颗粒。所述磁盘用玻璃基板的制造方法包括对玻璃基板进行抛光的抛光工序和抛光工序后对玻璃基板进行超声波洗涤的超声波洗涤工序，在抛光工序中使用粒径10nm～30nm的抛光磨粒，在超声波洗涤工序中，以300KHz～1000KHz的频率进行第一超声波洗涤而形成二次粒子，然后以30KHz～100KHz的频率进行第二超声波洗涤。
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公开(公告)号：CN102812514A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201180015015.X
申请日：2011-03-31
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 铃木阳介
CPC classification number: G11B5/8412 , B08B3/12 , B24B37/042 , C03C19/00 , C03C23/0075 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其目的之一在于，即使在玻璃基板的抛光工序中使用粒径小的抛光磨粒、且在抛光工序后的超声波洗涤工序中以高频率进行超声波处理的情况下，也可有效除去玻璃基板表面的颗粒。所述磁盘用玻璃基板的制造方法包括对玻璃基板进行抛光的抛光工序和抛光工序后对玻璃基板进行超声波洗涤的超声波洗涤工序，在抛光工序中使用粒径10nm～30nm的抛光磨粒，在超声波洗涤工序中，以300KHz～1000KHz的频率进行第一超声波洗涤而形成二次粒子，然后以30KHz～100KHz的频率进行第二超声波洗涤。
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公开(公告)号：CN102177546A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200980139523.1
申请日：2009-10-05
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C03C2204/08
Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具备使用固定磨粒将主表面为镜面的镜面板玻璃加工为必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，具备在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，将所述镜面板玻璃表面通过磨砂加工进行表面粗糙化的表面粗糙化工序。
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