公开(公告)号：CN1617832A

公开(公告)日：2005-05-18

申请号：CN02827952.2

申请日：2002-11-08

Applicant: J·M·休伯有限公司

Inventor： R·卡普 ,  S·S·纳德卡米 ,  R·拉马克里希南 ,  J·A·科斯汀克

IPC: C01B33/12 ,  A61K7/16

CPC classification number: C01B33/193 ,  A61K8/25 ,  A61K2800/262 ,  A61Q11/00 ,  C01P2002/02 ,  C01P2004/61 ,  C01P2006/19 ,  C01P2006/60 ,  C01P2006/90

Abstract: 提供一种研磨性无定形沉淀二氧化硅，其研磨性能很好，且有较高透光率，其折射率足够低，使其能用作水含量较高的透明牙膏组合物的组分。此二氧化硅的折射率约小于1.4387，透光率约大于48％，Brass Einlehner磨损值约大于5mg损失/100,000转。可以用此研磨性无定形二氧化硅制备浊度值约小于70的洁齿产品。

公开(公告)号：CN1878527A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：CN200380100065.3

申请日：2003-10-28

Applicant: J·M·休伯有限公司

Inventor： K·莱杰夫 ,  S·N·苏尼尔 ,  R·拉马纳什 ,  J·A·科斯汀克

IPC: A61K8/25 ,  A61Q11/00

Abstract: 提供一种研磨性无定形沉淀二氧化硅，其研磨性能很好，且有较高透光率，其折射指数充分低，故能用作水含量较高的透明牙膏组合物的一种组分。此二氧化硅的折射指数小于1.4387，透光率大于48％，Brass Einlehner磨损值大于5mg损失/100,000转。可以用此研磨性无定形二氧化硅制备浊度值小于70的洁齿产品。

公开(公告)号：CN100362979C

公开(公告)日：2008-01-23

申请号：CN02827952.2

申请日：2002-11-08

Applicant: J·M·休伯有限公司

Inventor： R·卡普 ,  S·S·纳德卡米 ,  R·拉马克里希南 ,  J·A·科斯汀克

IPC: A61K8/25 ,  C01B33/12

CPC classification number: C01B33/193 ,  A61K8/25 ,  A61K2800/262 ,  A61Q11/00 ,  C01P2002/02 ,  C01P2004/61 ,  C01P2006/19 ,  C01P2006/60 ,  C01P2006/90

Abstract: 提供一种研磨性无定形沉淀二氧化硅，其研磨性能很好，且有较高透光率，其折射率足够低，使其能用作水含量较高的透明牙膏组合物的组分。此二氧化硅的折射率约小于1.4387，透光率约大于48%，Brass Einlehner磨损值约大于5mg损失/100,000转。可以用此研磨性无定形二氧化硅制备浊度值约小于70的洁齿产品。