公开(公告)号：CN101517001B

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：CN200780034593.1

申请日：2007-09-18

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 孙桢晚 ,  高敏镇 ,  文明善 ,  金秉鲁 ,  郑宰昊

IPC: C08L83/04

CPC classification number: C09D183/04 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/31504

Abstract: 本发明涉及一种用于通过低温固化制备具有高强度、耐磨性和优异隔离性能的优异保护膜的组合物、由该组合物制备的保护膜、包括该保护膜的基板以及包括该基板的元件或器件。该组合物包含有机硅氧烷聚合物a)、光产碱剂b)和有机溶剂c)。

公开(公告)号：CN101517001A

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：CN200780034593.1

申请日：2007-09-18

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 孙桢晚 ,  高敏镇 ,  文明善 ,  金秉鲁 ,  郑宰昊

IPC: C08L83/04

CPC classification number: C09D183/04 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/31504

Abstract: 本发明涉及一种用于通过低温固化制备具有高强度、耐磨性和优异隔离性能的优异保护膜的组合物、由该组合物制备的保护膜、包括该保护膜的基板以及包括该基板的元件或器件。该组合物包含有机硅氧烷聚合物a)、光产碱剂b)和有机溶剂c)。