一次性写入光盘及在其上记录管理信息的方法和装置

    公开(公告)号:CN101241714B

    公开(公告)日:2013-03-13

    申请号:CN200810007906.0

    申请日:2003-09-30

    Inventor: 朴容彻 金成大

    Abstract: 本发明提供一次性写入光记录介质,如BD-WO,以及管理该一次性写入光记录介质的装置和方法。该记录介质包括至少一个具有至少一个临时缺陷管理区域和至少一个最终缺陷管理区域的记录层。该方法包括在记录介质的临时缺陷管理区域中记录临时缺陷管理信息,该临时缺陷管理信息包括表示该记录介质的记录使用状态的盘使用管理信息;并在转移阶段将该临时缺陷管理信息从该记录介质的临时缺陷管理区域转移到最终缺陷管理区域。

    在光学记录介质上记录的方法和使用该方法的装置

    公开(公告)号:CN101572099B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN200910148814.9

    申请日:2003-11-27

    Inventor: 朴容彻 金成大

    Abstract: 一种在光学记录介质上记录的方法和装置,其中包括管理信息的记录,它作为一次写入蓝色激光盘的标准被描述。管理信息记录在光盘的管理区,诸如临时缺陷管理区(TDMA)中,同时包括记录状态信息和更新信息。记录状态信息是指示记录操作是否为了光盘的某一预定区域已经被执行的空间位图(SBM),同时更新信息是指示该记录状态信息是否将被持续管理的SBM更新信息。所述SBM更新信息记录在TDMA内并且存储在光学记录/重写器件的存储器中用于在记录和重写操作中使用。在记录时,SBM-开状态使在需要时可执行逻辑重写操作。

    管理单次写入光盘上的重写的方法和装置

    公开(公告)号:CN1745427B

    公开(公告)日:2010-12-08

    申请号:CN200380109412.9

    申请日:2003-11-27

    Inventor: 朴容徹 金成大

    Abstract: 一种管理在单次写入光盘上的重写的方法,使得在可能在单次写入光盘上执行物理重写并在执行该物理重写后维持用户数据区的连续性。该方法包括从光盘的用户数据区的后部起替换记录被请求重写于已完成记录的光盘的特定区域的数据,并在光盘的管理区中记录根据替换记录操作改变的关于用户数据区的最后可记录位置的信息。

    光学记录媒体的缺陷管理方法及装置

    公开(公告)号:CN101241743A

    公开(公告)日:2008-08-13

    申请号:CN200810083182.8

    申请日:2004-02-25

    Inventor: 朴容彻 金成大

    Abstract: 本发明提供一种对具有至少一个临时缺陷管理区域的光学记录媒体的管理信息进行记录的方法和装置,包括:更新缺陷管理信息;在所述临时缺陷管理区域中记录所更新的缺陷管理信息;以及当所述记录媒体被退出时,在所述临时缺陷管理区域中记录最近更新的缺陷管理信息以及指向最近更新的缺陷管理信息的定位器信息。

    在一次性写入光记录介质上管理有缺陷的区域的方法和使用其的光记录介质

    公开(公告)号:CN1656541A

    公开(公告)日:2005-08-17

    申请号:CN03812082.8

    申请日:2003-09-26

    Inventor: 朴容彻 金成大

    Abstract: 提供了一种用于管理一次性写入光记录介质的有缺陷的区域的方法和一种使用其的光记录介质。该方法包括步骤:首先,在预先确定的区域中写入替换数据,该替换数据对应于在数据再现操作期间检测到的有缺陷的区域;其次,在预先确定的区域中写入定位器信息,该定位器信息表示有缺陷的区域和相应的替换数据各自的位置;和第三,在引入区域中写入辅助访问指针,该访问指针用于访问在预先确定的区域中写入的定位器信息。预先确定的区域可以位于数据区之内或者位于数据区之外,在一次性写入型光盘,诸如BD-WO光盘上记录数据之后,当主机新近检测到有缺陷的区域的时候,该预先确定的区域存储使得可以进行数据读取操作的辅助缺陷列表信息。

    阴极射线管中的框架
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1324095A

    公开(公告)日:2001-11-28

    申请号:CN01119606.8

    申请日:2001-04-30

    Inventor: 金成大

    CPC classification number: H01J29/073 H01J2229/0722

    Abstract: 本发明涉及阴极射线管中的框架,特别涉及用于支撑荫罩的张力罩型装置的框架,以向阴极射线管中的荫罩施加张力。阴极射线管中的框架包括用于固定荫罩的主框架,和用于支撑主框架的副框架,借此以作用其上的张力支撑荫罩,其中副框架有向荫罩突出的部分,以使荫罩上的张力引起的主框架的变形最小,副框架相对于副框架的中心在左右方向对称。

Patent Agency Ranking