公开(公告)号：CN101097879A

公开(公告)日：2008-01-02

申请号：CN200710127840.4

申请日：2007-06-29

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 元岛秀人 ,  饭尾善秀 ,  山下正美

IPC: H01L21/673 ,  B65D85/86

CPC classification number: H01L21/6734

Abstract: 基板盒的保持装置包括用于保持具有基板的盒的支撑基底。倾斜器件固定到支撑基底，用于通过将支撑基底旋转90以上，使支撑基底绕水平轴从其中基板顶表面向上设置的水平位置旋转到其中基板顶表面向下设置的过垂直位置。基板盒的储存方法包括几乎水平地在盒中储存基板、将盒固定在支撑基底上、和绕旋转轴使支撑基底如此旋转，即基板旋转到超过90度的角度。

公开(公告)号：CN1215533C

公开(公告)日：2005-08-17

申请号：CN03108318.8

申请日：2003-03-27

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 山下正美

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/26 ,  G03F7/38

CPC classification number: G03F7/40 ,  H01L21/0273

Abstract: 一种形成抗蚀图的方法，在抗蚀图的再流动过程中，该方法可以有效地控制抗蚀图修正的方式/形式和修正量，即使在再流动过程中抗蚀图的变形量增加，仍然可以以理想的精度实现理想的抗蚀图。第二层形成在第一层之上，并且第一抗蚀图形成在第二层之上。利用第一抗蚀图作为掩模可以有选择性地蚀刻第二层。之后，根据第一抗蚀图调节第二或者第一层的至少部分暴露的面积的可湿性，从而形成调节了可湿性的部分。修正第一抗蚀图，利用有机溶剂使得第一抗蚀图发生再流动以扩展到调节了可湿性的面积上，因此形成了第二抗蚀图，用来有选择地蚀刻第一或第二层。

公开(公告)号：CN1310073C

公开(公告)日：2007-04-11

申请号：CN03147434.9

申请日：2003-07-10

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 中谦一郎 ,  坂本道昭 ,  助川统 ,  冈本守 ,  中田慎一 ,  山下正美

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/1343 ,  H01L21/3205

CPC classification number: G02F1/133555 ,  G02F1/136213

Abstract: 提供一种半透型液晶显示装置，它能够防止铝或者铝合金制成的反射薄膜和氧化铟锡制成的透明电极薄膜之间的电腐蚀反应，并且能够抑制反射薄膜中的残留直流电压造成的闪烁的出现。在上述的半透型液晶显示装置中，把从背光源提供光的透射区和接收环境光的反射区设置在象素区中，并且使用插入在反射薄膜和透明电极薄膜之间的钝化薄膜来在有源矩阵衬底上的反射区中形成反射薄膜。

公开(公告)号：CN1523406A

公开(公告)日：2004-08-25

申请号：CN03147434.9

申请日：2003-07-10

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 中谦一郎 ,  坂本道昭 ,  助川统 ,  冈本守 ,  中田慎一 ,  山下正美

IPC: G02F1/133 ,  G02F1/1343 ,  H01L21/3205

CPC classification number: G02F1/133555 ,  G02F1/136213

Abstract: 提供一种半透型液晶显示装置，它能够防止铝或者铝合金制成的反射薄膜和氧化铟锡制成的透明电极薄膜之间的电腐蚀反应，并且能够抑制反射薄膜中的残留直流电压造成的闪烁的出现。在上述的半透型液晶显示装置中，把从背光源提供光的透射区和接收环境光的反射区设置在象素区中，并且使用插入在反射薄膜和透明电极薄膜之间的钝化薄膜来在有源矩阵衬底上的反射区中形成反射薄膜。