玻璃壳体、其制备方法及电子设备

    公开(公告)号:CN119317052A

    公开(公告)日:2025-01-14

    申请号:CN202310857793.8

    申请日:2023-07-12

    Inventor: 杨国威 杨啸 陈松

    Abstract: 本申请提供一种玻璃壳体、其制备方法及电子设备。本申请实施例的玻璃壳体具有多个玻璃凹陷部,所述多个玻璃凹陷部位于所述玻璃壳体的同一表面,所述多个玻璃凹陷部的深度沿预设方向呈渐变变化,其中,所述预设方向为平行于所述玻璃壳体所在的平面的方向。本申请实施例的玻璃壳体的多个玻璃凹陷部深度呈渐变变化,使得多个玻璃凹陷部组成的纹理图案可以呈现无边际的从无到有的渐变效果。

    不等厚玻璃及其制备方法和可折叠电子设备

    公开(公告)号:CN119371118A

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202310938678.3

    申请日:2023-07-27

    Abstract: 本申请提供了不等厚玻璃的制备方法,包括玻璃基板进行第一强化处理,得到第一预处理玻璃,玻璃基板包括第一部以及与第一部相邻接的第二部,第一部的厚度小于第二部的厚度;对第一强化处理后的第一部进行第一蚀刻处理,以减薄第一部,得到第二预处理玻璃,第一强化处理和第一蚀刻处理后,第一部的体积膨胀率小于第二部的体积膨胀率;第二预处理玻璃进行第二强化处理,得到第三预处理玻璃;第三预处理玻璃进行第二蚀刻处理,得到不等厚玻璃,不等厚玻璃包括由第一部得到的第一强化部以及由第二部得到的第二强化部,第一强化部的厚度小于第二强化部的厚度,第一强化部表面的峰谷值小于或等于0.1mm。本申请提供了不等厚玻璃和可折叠电子设备。

    保护油墨和玻璃的抛光方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118580719A

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202310203095.6

    申请日:2023-03-03

    Inventor: 杨国威

    Abstract: 本发明涉及一种玻璃制品的制备技术领域,特别涉及一种保护油墨和玻璃的抛光方法。本发明的保护油墨包括A组分和B组分;所述A组分包括以下重量百分比的组分:双官能度聚酯丙烯酸酯15%~25%、酚醛环氧丙烯酸脂30%~40%、填料35%~45%以及助剂2.5%~8%;其中,所述酚醛环氧丙烯酸脂包含氧化铝颗粒;所述B组分包括稀释剂和固化剂。本发明的保护油墨成膜后,油墨层的耐磨性能和耐碱性能好,可以在抛光处理45min内不出现脱落、边缘锯齿等问题。

    不等厚玻璃及其制备方法和可折叠电子设备

    公开(公告)号:CN119430667A

    公开(公告)日:2025-02-14

    申请号:CN202310973819.5

    申请日:2023-08-03

    Abstract: 本申请提供了一种不等厚玻璃的制备方法,包括:提供可弯折玻璃,所述可弯折玻璃包括第一部以及与所述第一部连接的可弯折部;蚀刻所述可弯折部,在所述蚀刻中所述可弯折部的折弯角度和折弯半径变化,制得不等厚玻璃,所述不等厚玻璃包括所述第一部以及所述可弯折部形成的第二部和过渡部,所述过渡部连接所述第一部和所述第二部,所述过渡部的厚度小于所述第一部的厚度,所述第二部的厚度小于所述过渡部的厚度,所述过渡部的表面粗糙度小于10nm。本申请还提供了不等厚玻璃以及可折叠电子设备。

    玻璃壳体、其制备方法及电子设备

    公开(公告)号:CN119317053A

    公开(公告)日:2025-01-14

    申请号:CN202310858574.1

    申请日:2023-07-12

    Inventor: 杨国威 杨啸 陈松

    Abstract: 本申请提供一种玻璃壳体、其制备方法及电子设备。本申请实施例的所述玻璃壳体具有多个玻璃凹陷部,所述多个玻璃凹陷部位于所述玻璃壳体的同一表面,每个所述玻璃凹陷部具有反光面,所述玻璃壳体还具有背离所述多个玻璃凹陷部的预设表面,沿预设方向上,所述多个玻璃凹陷部的所述反光面与所述预设表面之间的角度呈渐变变化,其中,所述预设方向为平行于所述预设表面的方向。本申请实施例的玻璃壳体的玻璃凹陷部的反光面的角度呈渐变变化,从而在不同角度都能看到闪光点。

    微晶玻璃刻蚀液、防眩光微晶玻璃、壳体组件和电子设备

    公开(公告)号:CN114409265B

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202210097153.7

    申请日:2022-01-26

    Abstract: 本申请提供了一种微晶玻璃刻蚀液,按质量百分比计,所述微晶玻璃刻蚀液包括1%‑5%的盐酸、30%‑40%的氟化氢铵、1%‑5%的氢氟酸、3%‑5%的氟硅酸盐、20%‑30%的柠檬酸、2%‑5%的硫酸钡以及余量的水。本申请提供的微晶玻璃刻蚀液可以用于防眩光微晶玻璃的制备,既保证了防眩光微晶玻璃的上砂效果,同时又能够获得具有优异力学性能的防眩光微晶玻璃。本申请还提供了防眩光微晶玻璃及其制备方法、壳体组件和电子设备。

    玻璃壳体及其制备方法和电子设备

    公开(公告)号:CN119707304A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202311279358.8

    申请日:2023-09-28

    Inventor: 杨国威

    Abstract: 本申请提供了玻璃壳体及其制备方法和电子设备,其中玻璃壳体的制备方法包括:对玻璃基板进行蚀刻工艺,以在所述玻璃基板的表面形成多个第一凹陷部,得到蚀刻玻璃;对所述蚀刻玻璃进行压铸工艺,以在所述蚀刻玻璃具有所述第一凹陷部的表面形成多个第二凹陷部,得到玻璃壳体;其中,部分所述第一凹陷部设置在所述第二凹陷部的周壁上。

    微晶玻璃刻蚀液、防眩光微晶玻璃、壳体组件和电子设备

    公开(公告)号:CN114409265A

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN202210097153.7

    申请日:2022-01-26

    Abstract: 本申请提供了一种微晶玻璃刻蚀液,按质量百分比计,所述微晶玻璃刻蚀液包括1%‑5%的盐酸、30%‑40%的氟化氢铵、1%‑5%的氢氟酸、3%‑5%的氟硅酸盐、20%‑30%的柠檬酸、2%‑5%的硫酸钡以及余量的水。本申请提供的微晶玻璃刻蚀液可以用于防眩光微晶玻璃的制备,既保证了防眩光微晶玻璃的上砂效果,同时又能够获得具有优异力学性能的防眩光微晶玻璃。本申请还提供了防眩光微晶玻璃及其制备方法、壳体组件和电子设备。

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