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公开(公告)号:CN102574342A
公开(公告)日:2012-07-11
申请号:CN201080039978.9
申请日:2010-09-02
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: B29D11/00
CPC classification number: B29D11/0074 , B29C67/202 , G02B1/04 , Y10T428/1036 , Y10T428/1041 , Y10T428/24355 , Y10T428/24364
Abstract: 本发明提供了用于平板显示(FPD)装置的光学薄膜及其制造方法。具体地,提供了将表面粗糙度赋予光学薄膜的方法,其包括通过溶液浇铸法在光学薄膜的表面上形成具有10nm-100μm曲率半径的凹陷的坑、以及在一个坑和另一个坑之间形成台地。也提供了使用同一方法获得的光学薄膜。