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公开(公告)号：CN114606036A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202111475520.4
申请日：2021-12-06
IPC: C10M105/24 , C10N30/04 , C10N30/06
Abstract: 本发明提供了一种用于抑制堵塞的润滑组合物，其包括基础油和选自脂肪酸和乳化剂中的任意一种，其中即使当相对于基础油引入羧酸基单体时，该润滑组合物也形成单一相。该润滑组合物抑制了在制备衍生自羧酸基单体的共聚物的过程中发生堵塞。此外，本发明还提供了使用该抑制堵塞的润滑组合物抑制堵塞的方法。
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公开(公告)号：CN112210024B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202010634664.9
申请日：2020-07-02
Applicant: SK 新技术株式会社 , 爱思开致新株式会社
IPC: C08F2/42 , C08F2/00 , C08F220/06 , C08F210/02
Abstract: 本发明公开了一种润滑剂组合物，其包含基础油、基于吩噻嗪的阻聚剂和阻聚促进剂，所述阻聚促进剂包括基于受阻酚的化合物和基于氢醌的化合物。通过阻聚剂和阻聚促进剂之间的相互作用抑制了聚合工艺中的自聚合。本发明还提供了一种使用所述润滑剂组合物制备共聚物的方法。
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公开(公告)号：CN114249854B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202111123678.5
申请日：2021-09-24
IPC: C08F210/02 , C08F220/06 , C08F2/00 , B01D35/16 , B01D35/28 , B01D36/02 , B01J4/00 , B01J19/00
Abstract: 本发明涉及一种乙烯基共聚物的制备方法，更具体地，涉及一种可以防止装置的腐蚀和堵塞而提高工艺效率的乙烯基共聚物的制备方法。本发明的乙烯基共聚物的制备方法选择性地执行制备模式和清洗模式中的一种模式，所述制备模式包括：a)将包含经一次压缩的乙烯、含有羧酸的共聚单体和极性溶剂的混合物进行高压压缩以生成压缩物的步骤；b)使所述压缩物反应以生成包含乙烯基共聚物的反应产物的反应步骤；以及c)从所述反应产物中分离并回收未反应残留物，并使其流入所述步骤a)的所述混合物中的步骤，所述清洗模式包括：将所述步骤a)中生成的压缩物作为混合物再次供应到所述步骤a)而不进行所述步骤b)的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110998446B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN201880049505.3
申请日：2018-07-04
Abstract: 本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物。更具体地，本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物，其能够减轻光刻胶层的基板上的曝光光和照射光的反射，所述光刻胶层在制造半导体设备的光刻工艺中涂布在基板上；以及包含所述底部抗反射涂层形成用聚合物的底部抗反射涂层形成用组合物。
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公开(公告)号：CN114249854A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202111123678.5
申请日：2021-09-24
IPC: C08F210/02 , C08F220/06 , C08F2/00 , B01D35/16 , B01D35/28 , B01D36/02 , B01J4/00 , B01J19/00
Abstract: 本发明涉及一种乙烯基共聚物的制备方法，更具体地，涉及一种可以防止装置的腐蚀和堵塞而提高工艺效率的乙烯基共聚物的制备方法。本发明的乙烯基共聚物的制备方法选择性地执行制备模式和清洗模式中的一种模式，所述制备模式包括：a)将包含经一次压缩的乙烯、含有羧酸的共聚单体和极性溶剂的混合物进行高压压缩以生成压缩物的步骤；b)使所述压缩物反应以生成包含乙烯基共聚物的反应产物的反应步骤；以及c)从所述反应产物中分离并回收未反应残留物，并使其流入所述步骤a)的所述混合物中的步骤，所述清洗模式包括：将所述步骤a)中生成的压缩物作为混合物再次供应到所述步骤a)而不进行所述步骤b)的步骤。
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公开(公告)号：CN113278101A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110193565.6
申请日：2021-02-20
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
IPC: C08F210/02 , C08F220/06
Abstract: 在一种生产乙烯‑羧酸共聚物的方法中，由排出单元提供包含羧酸单体的单体溶液。羧酸单体与乙烯类单体共聚。排出单元与单体溶液之间的摩擦系数保持为0.3以下。
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公开(公告)号：CN110998446A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880049505.3
申请日：2018-07-04
Abstract: 本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物。更具体地，本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物，其能够减轻光刻胶层的基板上的曝光光和照射光的反射，所述光刻胶层在制造半导体设备的光刻工艺中涂布在基板上；以及包含所述底部抗反射涂层形成用聚合物的底部抗反射涂层形成用组合物。
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公开(公告)号：CN112210024A
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN202010634664.9
申请日：2020-07-02
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
IPC: C08F2/42 , C08F2/00 , C08F220/06 , C08F210/02
Abstract: 本发明公开了一种润滑剂组合物，其包含基础油、基于吩噻嗪的阻聚剂和阻聚促进剂，所述阻聚促进剂包括基于受阻酚的化合物和基于氢醌的化合物。通过阻聚剂和阻聚促进剂之间的相互作用抑制了聚合工艺中的自聚合。本发明还提供了一种使用所述润滑剂组合物制备共聚物的方法。
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