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公开(公告)号：CN100511432C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200710084232.X
申请日：2007-02-27
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 提供一种可谋求在制造时提高生产率的信息记录介质制造方法。进行在加工对象体(10，基体材料)中的形成了凹凸图案(15)的凹凸图案形成面(保护层16的表面)上涂敷树脂材料(流动性材料)以形成树脂层(17，涂敷层)的树脂层形成处理(涂敷层形成处理)和对树脂层(17)摩擦抛光装置(30)中的抛光带(31，平坦化用构件)以使加工对象体(10)的表面平坦化的平坦化处理来制造信息记录介质。
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公开(公告)号：CN101030387A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710084232.X
申请日：2007-02-27
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 提供一种可谋求在制造时提高生产率的信息记录介质制造方法。进行在加工对象体(10，基体材料)中的形成了凹凸图案(15)的凹凸图案形成面(保护层16的表面)上涂敷树脂材料(流动性材料)以形成树脂层(17，涂敷层)的树脂层形成处理(涂敷层形成处理)和对树脂层(17)摩擦抛光装置(30)中的抛光带(31，平坦化用构件)以使加工对象体(10)的表面平坦化的平坦化处理来制造信息记录介质。
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公开(公告)号：CN112639797A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201880097093.0
申请日：2018-10-11
Applicant: TDK株式会社
IPC: G06G7/60
Abstract: 本发明提供一种积和运算器，其具有：多个积运算部，其对与输入值对应的具有上升部、信号部和下降部的输入信号乘以权重来生成输出信号，并输出所述输出信号；和运算部，其运算多个所述积运算部各自输出的所述输出信号的总和；以及校正部，其执行基于包含第一值和第二值中的至少一者的校正值来校正所述输出信号的总和的校正处理，其中，所述第一值是通过由所述输入信号的所述上升部引起的流入多个所述积运算部的可变电阻中的电流而被并入于所述总和的值，所述第二值是通过由所述输入信号的所述下降部引起的流入多个所述积运算部的可变电阻中的电流而被并入于所述总和的值。
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公开(公告)号：CN100524473C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200610163615.1
申请日：2006-12-01
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种不会带来表面平坦性的恶化或磁信号的读取不良的、能够在全体区域中使头上浮量均一的磁记录介质。规定为在圆周方向上交替地排列通过凹凸模式(11t)形成了数据磁道模式的数据磁道模式区域(At)、通过凹凸模式(11s)形成了伺服模式的伺服模式区域(As)，同时在圆周方向上相邻的2个伺服模式区域(As、As)之间规定与数据磁道模式区域(At)不同的个别的测量区域(Az)(规定区域)，在测量区域(Az)中，形成有具有沿着直径方向连续形成的多个凸部分(11a)(第一凸部分)的凹凸模式(11z)。
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公开(公告)号：CN113261005B
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN201980079429.5
申请日：2019-01-09
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种积和运算器，其具备：多个积运算部，其将与输入值对应的输入信号乘以权重，生成输出信号，并输出所述输出信号；电流检测部，其在从根据所述输入信号的输入的向所述积运算部的寄生电容的充电引起的第一过渡响应收敛且成为恒定状态的时间到产生根据所述输入信号的输入的来自所述积运算部的寄生电容的放电引起的第二过渡响应前的时间，从所述输入信号以规定的时间延迟检测多个所述积运算部输出的电流，然后，执行以一定时间间隔检测多个所述积运算部输出的电流的电流检测处理；和运算部，其基于所述电流检测部每所述一定时间间隔检测的电流，对与所述输出信号的总和关联的值进行运算。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115480348A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202210588055.3
申请日：2022-05-27
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种将光半导体元件和平面光波导组合而能够进行高集成化的集成光源模块。本发明的集成光源模块(100)具备：平面光波导(50)，其具有并排排列的N个入射口(61)、并排排列的M个出射口、以及与N个入射口(61)和M个出射口相连的光波导；N个光半导体元件(30)，其与N个入射口(61)分别相对，被配设为能够向N个入射口(61)入射光，上述集成光源模块(100)能够将从M个出射口出射的光向被照射对象照射。
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公开(公告)号：CN112639797B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN201880097093.0
申请日：2018-10-11
Applicant: TDK株式会社
IPC: G06G7/60
Abstract: 本发明提供一种积和运算器，其具有：多个积运算部，其对与输入值对应的具有上升部、信号部和下降部的输入信号乘以权重来生成输出信号，并输出所述输出信号；和运算部，其运算多个所述积运算部各自输出的所述输出信号的总和；以及校正部，其执行基于包含第一值和第二值中的至少一者的校正值来校正所述输出信号的总和的校正处理，其中，所述第一值是通过由所述输入信号的所述上升部引起的流入多个所述积运算部的可变电阻中的电流而被并入于所述总和的值，所述第二值是通过由所述输入信号的所述下降部引起的流入多个所述积运算部的可变电阻中的电流而被并入于所述总和的值。
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公开(公告)号：CN113261005A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN201980079429.5
申请日：2019-01-09
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种积和运算器，其具备：多个积运算部，其将与输入值对应的输入信号乘以权重，生成输出信号，并输出所述输出信号；电流检测部，其在从根据所述输入信号的输入的向所述积运算部的寄生电容的充电引起的第一过渡响应收敛且成为恒定状态的时间到产生根据所述输入信号的输入的来自所述积运算部的寄生电容的放电引起的第二过渡响应前的时间，从所述输入信号以规定的时间延迟检测多个所述积运算部输出的电流，然后，执行以一定时间间隔检测多个所述积运算部输出的电流的电流检测处理；和运算部，其基于所述电流检测部每所述一定时间间隔检测的电流，对与所述输出信号的总和关联的值进行运算。
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公开(公告)号：CN1971712B
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200610142576.7
申请日：2006-10-30
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/59627 , G11B5/5965
Abstract: 本发明的记录重放装置不会带来可记录区域的减少就能够测量与记录头和重放头有关的规定的参数。具备：由凹凸模式(11t、11s)形成了数据磁道模式和伺服模式的磁盘(10)；写入信号的记录头(2w)；读出写入了的信号的重放头(2r)；对磁盘(10)执行测量用信号的写入和读出，测量与两个头(2w、2r)有关的规定的参数的控制部件，其中控制部件在测量规定的参数时，经由记录头(2w)向伺服模式区域(As)内的各凸部分(11a)中的沿着磁盘(10)的直径方向连续形成的第一凸部分(报头模式区域(Ap)内的各凸部分(11a))写入测量用信号，同时经由重放头(2r)读出测量用信号，并根据该读出结果测量规定的参数。
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公开(公告)号：CN1988006A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200610163615.1
申请日：2006-12-01
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种不会带来表面平坦性的恶化或磁信号的读取不良的、能够在全体区域中使头上浮量均一的磁记录介质。规定为在圆周方向上交替地排列通过凹凸模式(11t)形成了数据磁道模式的数据磁道模式区域(At)、通过凹凸模式(11s)形成了伺服模式的伺服模式区域(As)，同时在圆周方向上相邻的2个伺服模式区域(As、As)之间规定与数据磁道模式区域(At)不同的个别的测量区域(Az)(规定区域)，在测量区域(Az)中，形成有具有沿着直径方向连续形成的多个凸部分(11a)(第一凸部分)的凹凸模式(11z)。
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