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公开(公告)号：CN1554085A
公开(公告)日：2004-12-08
申请号：CN02817655.3
申请日：2002-07-31
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B7/00375 , G11B7/26 , G11B7/268
Abstract: 本发明的目的是提供一种不大为降低合格率就能有效消除缺陷盘的光记录介质制造方法。本发明是一种包括至少透光层3和记录层2，从而通过将激光束经所述透光层3投射到所述记录层2上读出和/或记录数据的光记录介质的制造方法，其中所述光记录介质制造方法包括至少用于检测所述透光层3内含有的内部缺陷的检查过程。在所述检查过程中，将在第一方向所述内部缺陷的临界值，和在不同于所述第一方向的第二方向的临界值设置为不同值。通过这种方式在两个方向分别定义内部缺陷的尺寸的临界值，这样通过适当地设置这些临界值，就能不大为降低合格率有效消除缺陷盘。
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