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公开(公告)号：CN109683326A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201811186416.1
申请日：2018-10-11
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: G02B27/09
CPC classification number: G02B27/48 , G01S7/4814 , G01S17/42 , G02B5/021 , G02B5/0215 , G02B5/0257 , G02B5/0278 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B26/0808 , G02B27/0911 , G02B27/0916 , G02B27/0927 , G02B27/095 , G03B21/005 , G03B21/142 , G02B27/0955 , G02B27/0938
Abstract: 本发明提供一种激光投射装置。激光投射装置具有：激光源、扩散板和壳体。扩散板具有入射面和出射面，入射激光源的出射光。在入射面和出射面的至少一方，排列直线状的多个槽。壳体具有在激光源的射出方向，射出通过槽而扩散的光的开口部。
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公开(公告)号：CN103403592B
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：CN201280010847.7
申请日：2012-11-28
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: G02B6/34 , F21V8/00 , G02B5/02 , G02B5/18 , G02B6/00 , G02B6/122 , G02B6/42 , H01L31/042 , H01L31/052 , H01L33/58 , H01S5/022
CPC classification number: G02B6/34 , G02B5/189 , G02B6/0006 , G02B6/0008 , G02B6/0016 , G02B6/02066 , G02B6/0208 , G02B6/42 , G02B19/0052 , H01L31/0547 , Y02E10/52
Abstract: 本申请所公开的取光板，具备：具有第一和第二主面的透光板；在所述透光板内的、且从第一和第二主面分别隔开了第一和第二距离以上的内部所配置的多个光耦合构造，所述多个光耦合构造各自含有第一透光层、第二透光层、及其间所夹设的第三透光层，所述第一和第二透光层的折射率比所述透光板的折射率小，所述第三透光层的折射率比所述第一和第二透光层的折射率大，所述第三透光层具有与所述透光板的所述第一和第二主面平行的二维衍射光栅。
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公开(公告)号：CN103493314B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201280011590.7
申请日：2012-02-29
Applicant: 欧司朗股份有限公司
Inventor： 安德烈亚斯·罗津斯基
CPC classification number: H01S3/005 , G02B7/023 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G03B21/2013 , G03B21/2033 , H01S3/02 , H01S5/005 , H01S5/02212 , H01S5/02288 , Y10T29/49826
Abstract: 本发明涉及一种激光设备，所述激光设备具有：设置在壳体（21）中的激光器；相对于所述激光器校准位置的透镜（31）和透镜架（1），所述透镜架由在激光束的传播方向（3）上彼此跟随的至少两个透镜架部件（2a，2b，2c）组成以用于长度调节。在此，通过选择确定透镜架部件之间的垂直于传播方向的间距的相对位置结合透镜架部件的倾斜于传播方向定向的端侧进行透镜架的长度调节。透镜架部件中的一个透镜架部件（2c）能够构成为管形体，所述管形体能够被推动到壳体（21）上。
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公开(公告)号：CN101852337B
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201010174284.8
申请日：2005-05-05
Applicant: 伦斯勒工业学院
Inventor： 纳德拉贾·纳伦德朗 , 顾益敏 , 让·保罗·弗雷西尼耶
CPC classification number: G02B19/0061 , F21K9/64 , F21Y2115/10 , G02B6/0003 , G02B6/0031 , G02B6/0033 , G02B19/0028 , G02B19/0052 , H01L33/58
Abstract: 一种发光设备包括：发射光的光源；降频转换材料，用于接收发射光并将发射光转换为透射光和向后传输光；以及光学装置，其具有圆形横截面和位于光源与降频转换材料之间的连续的透明壁，所述光学装置被构造成接收向后传输光并将向后传输光通过连续的透明壁传递到光学装置之外，其中，所述降频转换材料安装或沉积于所述光学装置上。
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公开(公告)号：CN103493314A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201280011590.7
申请日：2012-02-29
Applicant: 欧司朗股份有限公司
Inventor： 安德烈亚斯·罗津斯基
CPC classification number: H01S3/005 , G02B7/023 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G03B21/2013 , G03B21/2033 , H01S3/02 , H01S5/005 , H01S5/02212 , H01S5/02288 , Y10T29/49826
Abstract: 本发明涉及一种激光设备，所述激光设备具有：设置在壳体（21）中的激光器；相对于所述激光器校准位置的透镜（31）和透镜架（1），所述透镜架由在激光束的传播方向（3）上彼此跟随的至少两个透镜架部件（2a，2b，2c）组成以用于长度调节。在此，通过选择确定透镜架部件之间的垂直于传播方向的间距的相对位置结合透镜架部件的倾斜于传播方向定向的端侧进行透镜架的长度调节。透镜架部件中的一个透镜架部件（2c）能够构成为管形体，所述管形体能够被推动到壳体（21）上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1981157B
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN200580022283.9
申请日：2005-05-05
Applicant: 伦斯勒工业学院
Inventor： 纳德拉贾·纳伦德朗 , 顾益敏 , 让·保罗·弗雷西尼耶
CPC classification number: G02B19/0061 , F21K9/64 , F21Y2115/10 , G02B6/0003 , G02B6/0031 , G02B6/0033 , G02B19/0028 , G02B19/0052 , H01L33/58
Abstract: 一种发光设备包括：发射光的光源；降频转换材料，用于接收发射光和将发射光转换为透射光和向后传输光；以及光学装置，被构造成接收向后传输光和将向后传输光传送至光学装置之外。光源是半导体光发射器，其可以包括发光二极管(LED)，激光二极管(LD)，或谐振腔发光二极管(RCLED)。降频转换材料包括荧光体及用于在某一光谱区域内吸收光而在另一光谱区域内发射光的其它材料中的一种。光学装置或透镜包括光透射材料。
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公开(公告)号：CN101107544B
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200480044779.1
申请日：2004-12-30
Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司
IPC: G02B3/00
CPC classification number: G02B26/0875 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B27/0927 , G02B27/095
Abstract: 本发明涉及用于改变激光辐射场强度分布的装置，它包括具有不同折射率(n2，n3)并具有两个相对放置、相互对应的光学功能分界面(5，6)的两个基片(3，4)，所述分界面至少部分是弯曲的。要被改变的激光辐射场可先后穿过这些光学功能分界面(5，6)，其中第一和第二基片(3，4)的折射率(n2，n3)之差(Δn)小于0.1，并且第一光学功能分界面(5)与第二光学功能分界面(6)之间的空间(9)被如此设计，使得激光射线在从第一基片(3)到第二基片(4)传播时主要只经历一个基于第一和第二基片(3，4)的折射率(n2，n3)之差(Δn)的折射。
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公开(公告)号：CN101679092A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880018293.9
申请日：2008-05-21
Applicant: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
CPC classification number: C03B11/08 , C03B2215/49 , C03B2215/72 , G02B3/06 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B27/0966
Abstract: 提供一种光学元件的制造方法，其中，通过加压成型熔融玻璃滴能够高效率高精度地制造具备侧面成形面的光束整形元件等光学元件。在对下模供给温度高于成型模具的所定体积的熔融玻璃滴之后，用成型模具加压成型熔融玻璃滴，在上成形面和侧面成形面之间形成不接触成型模具固化的自由面。使供给的熔融玻璃滴的体积，在由延长上成形面和侧面成形面时的、延长后的上成形面和延长后的侧面成形面及下成形面构成的空间之体积的0.8倍以上0.97倍以下。
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公开(公告)号：CN101477313A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200910007142.X
申请日：2007-04-04
Applicant: 特萨斯克里伯斯有限公司
CPC classification number: G03F7/70291 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B21/08 , G02B21/245 , G02B27/0081 , G02B27/0955 , G03H1/0891 , G03H2001/0224 , G03H2001/048
Abstract: 本发明涉及一种用于微构造存储介质(2)的设备，该设备包括用于根据电磁辐射来产生至少部分相干光束的辐射源(4)、具有多个单独可切换调制器单元的调制器(6)、用于照射调制器(6)的光束形成光学单元(8)、用于缩减由调制器(6)辐射的光束的缩减光学单元(10)和用于相对于缩减光学单元来转移存储介质(2)的传送台(12)。本发明的目的在于解决由于微构造的写入和单独衍射光学单元(DOE)、特别是具有高速度和高写入能量的由计算机生成的全息图所引起的技术问题。可以实现所述目的是因为缩减光学单元(10)被配置有受限的衍射并且所述单元(10)产生相对于单独调制器单元的表面至少为25的表面缩减。本发明也涉及一种用于控制所述设备的方法和一种由此描述的存储介质。
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公开(公告)号：CN101231384A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200810033888.3
申请日：2008-02-26
Applicant: 上海激光等离子体研究所
CPC classification number: G02B27/0927 , G01J3/18 , G01J2003/1213 , G01J2003/1282 , G02B19/0023 , G02B19/0052 , G02B27/0944 , G02B27/0983 , G02B27/30 , H01S3/005
Abstract: 本发明涉及一种用于啁啾脉冲放大(CPA)系统的自准直平面调制光谱调制整形装置。包括自准直平面调制CTSI光谱分解系统和CTSI光谱合成系统，包括光阑和平面光谱调制反射镜构成光谱调制系统；利用CTSI光谱分解系统先将激光啁啾脉冲真实展开到光谱面，再利用光谱调制系统在像平面上进行光谱调制，然后利用CTSI光谱合成系统将调制后光谱无畸变的还原为调制后的啁啾脉冲，达到光谱调制整形目的。本发明所用光学元件易于加工，且具有结构紧凑，占用空间少，价格较低等特点；本装置可根据需要设计为各种型式的光谱整形调制装置；可对一般激光脉冲实现光谱调制和光谱整形，尤其适用于几个纳米带宽的大能量高功率CPA系统。
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