摄像装置及对焦控制方法

    公开(公告)号:CN105452926A

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201480043393.2

    申请日:2014-06-20

    Inventor: 樱武仁史

    Abstract: 本发明提供一种即使在同时使用基于相位差AF方式的对焦控制及基于对比度AF方式的对焦控制时,也能够缩短对焦控制结束为止的时间来进行高速的AF的摄像装置及对焦控制方法。数码相机进行通过像素对(P1)拍摄的两个图像的相关运算,进行通过像素对(P2)拍摄的两个图像的相关运算,根据从这些两个相关运算的结果生成的信息,判定相关运算结果的可靠度。在可靠度较低时,数码相机进行对比度AF。此时,数码相机根据可靠度的高低,可变控制为了计算对比度值而使聚焦透镜在规定范围内移动时的移动步长即任意距离。

    自动聚焦装置以及包括它的透镜装置和图像拾取系统

    公开(公告)号:CN102591098B

    公开(公告)日:2015-12-09

    申请号:CN201210001555.9

    申请日:2012-01-05

    Inventor: 磯部真吾

    Abstract: 本发明涉及一种自动聚焦装置以及包括它的透镜装置和图像拾取系统。自动聚焦装置包括:第一焦点检测器,其基于相位差检测第一焦点评估值;第二焦点检测器,其使用来自图像拾取元件的信号检测第二焦点评估值;聚焦机构;聚焦控制器,其基于由第一焦点检测器获得的第一焦点评估值和由第二焦点检测器获得的第二焦点评估值来控制聚焦机构;和速度设置单元,其在通过使用聚焦控制器获得对焦状态的处理中基于由第一焦点检测器检测到的第一数据和第二焦点评估值来为聚焦控制器设置驱动聚焦机构的驱动速度。

    光电子装置和图像记录设备

    公开(公告)号:CN101903819B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN200880122514.7

    申请日:2008-11-26

    CPC classification number: G02B7/32 G02B3/005 G02B7/285

    Abstract: 在光电子装置(10)的至少一个实施形式中,该光电子装置具有光学元件(1)和适于产生电磁辐射(R)的光电子半导体芯片(2)。该光学元件(1)单件式地构建并且包含两个彼此对置的辐射穿透面(34)。此外该光学元件(1)包括带有多个彼此邻接的透镜区域(6)的透镜装置(5),其中透镜装置(5)成形在辐射穿透面(34)之一中,并且另外的辐射穿透面(34)平滑地实施。此外,透镜区域(6)设计并且布置为使得通过光学元件(1)的辐射以不同的圆柱形的波前和/或彼此分离的波前或者射束(S)成形。

    光学设备
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102736212A

    公开(公告)日:2012-10-17

    申请号:CN201210099948.8

    申请日:2012-04-06

    Inventor: 田口文也

    CPC classification number: G02B7/285 H04N5/23212

    Abstract: 一种光学设备,具有:第1焦点检测部,根据第1焦点检测方式,检测成像光学系统的焦点调节状态,输出第1焦点检测信号;第2焦点检测部,根据和第1焦点检测方式不同的第2焦点检测方式,检测成像光学系统的焦点调节状态,输出第2焦点检测信号;焦点调节部,根据第1焦点检测信号和第2焦点检测信号的其中之一,进行成像光学系统的焦点调节;报告部,对应通过焦点调节部进行的焦点调节,使和焦点检测方式对应的报告不同。

    图像拍摄装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101459776B

    公开(公告)日:2012-02-01

    申请号:CN200810185758.1

    申请日:2008-12-10

    Inventor: 藤井真一

    Abstract: 一种图像拍摄装置,包括:图像拍摄元件,被配置为接收对象光,并且生成表示对象图像的图像信号;显示单元;相位差检测器,被配置为利用测距传感器来接收对象光,并且生成相位差检测信号;第一焦点检测单元,被配置为基于相位差检测信号来执行焦点检测;显示控制单元,被配置为基于由图像拍摄元件顺序生成的图像信号,在显示单元上显示实际图像拍摄之前的预览图像;以及设定单元,被配置为设定是否应当启用区域显示模式,其中,在该区域显示模式中,在图像拍摄平面上可能实现焦点检测的区域被与预览图像合成并且被显示在显示单元上。

    光电子装置和图像记录设备

    公开(公告)号:CN101903819A

    公开(公告)日:2010-12-01

    申请号:CN200880122514.7

    申请日:2008-11-26

    CPC classification number: G02B7/32 G02B3/005 G02B7/285

    Abstract: 在光电子装置(10)的至少一个实施形式中,该光电子装置具有光学元件(1)和适于产生电磁辐射(R)的光电子半导体芯片(2)。该光学元件(1)单件式地构建并且包含两个彼此对置的辐射穿透面(34)。此外该光学元件(1)包括带有多个彼此邻接的透镜区域(6)的透镜装置(5),其中透镜装置(5)成形在辐射穿透面(34)之一中,并且另外的辐射穿透面(34)平滑地实施。此外,透镜区域(6)设计并且布置为使得通过光学元件(1)的辐射以不同的圆柱形的波前和/或彼此分离的波前或者射束(S)成形。

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