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公开(公告)号:CN109074889B
公开(公告)日:2022-10-18
申请号:CN201780025169.4
申请日:2017-02-13
Applicant: 拉皮斯坎系统股份有限公司
Abstract: 本说明书公开了用于识别并且报告油罐、集装箱、或车辆的内装物的系统和方法。提供了帮助操作人员分析油罐、集装箱、或车辆的内装物的编程工具。对于每次装运,将货单数据自动输入至系统中,由此帮助安检人员快速确定集装箱内装物。在由货单数据显示的集装箱内装物与从扫描系统确定的内装物之间不匹配的情况下,可以扣留集装箱或车辆做进一步地检查。
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公开(公告)号:CN113785192A
公开(公告)日:2021-12-10
申请号:CN202080022103.1
申请日:2020-03-17
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份有限公司
IPC: G01N23/046 , G21K7/00
Abstract: 一种用于在X射线成像过程期间保持样品的样品保持件,所述样品保持件包括:样品放置表面,样品放置在该样品放置表面上以用于在样品保持件的深度方向上定位样品;用于在样品保持件的宽度方向上对准样品的第一对准部分;以及用于在样品保持件的高度方向上对准样品的第二对准部分。
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公开(公告)号:CN108538425B
公开(公告)日:2020-04-24
申请号:CN201810413498.2
申请日:2018-05-03
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: G21K7/00
Abstract: 一种多层膜X射线波带片的制备方法,首先根据设计的波带片高度,在作为波带片主体支撑的中心细丝(1)的侧表面进行选择性遮挡,随后采用薄膜沉积方法在中心细丝(1)表面交替沉积两种薄膜材料,该多层膜作为波带片的环带结构,每层薄膜的厚度沿径向按波带片的设计需求逐层递减,在多层膜的外表面再沉积一层保护膜,完成沉积后去除中心细丝(1)上的遮挡物,在中心细丝(1)上得到多个多层膜波带片结构,然后利用离子束对每个多层膜截面进行刻蚀、抛光,最后在无多层膜处切断中心细丝(1),即可得到所需波带片。
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公开(公告)号:CN110108730A
公开(公告)日:2019-08-09
申请号:CN201910272822.8
申请日:2019-04-04
Applicant: 天津大学
Abstract: 本发明一种单次曝光X射线双能显微成像的系统,其特征在于,包括X射线双能转换装置和分光显微成像装置。其中,X射线双能转换装置包括:预滤波层,用于预先滤除部分能量极低的X射线,该预滤波层由锡制成;多层复合闪烁片,所述多层复合闪烁片包括,第一闪烁片,用于吸收多色X射线中的低能X射线,并产生第一闪烁光;滤波层,用于过滤剩余低能X射线;第二闪烁片,用于吸收多色X射线中的高能X射线,并产生第二闪烁光,其中所述第二闪烁光和第一闪烁光的中心波长相差较大,便于分光装置将所述两种闪烁光分开。
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公开(公告)号:CN109243947A
公开(公告)日:2019-01-18
申请号:CN201810781507.3
申请日:2018-07-10
Inventor: J.菲列维奇
IPC: H01J35/08 , G21K7/00 , G01N23/046
CPC classification number: G01N23/046 , G01N2223/401 , G01N2223/419 , G21K7/00 , H01J35/08 , H01J2235/081 , H01J2235/086 , G01N2223/204
Abstract: 公开了一种方法和系统,用于使用薄片状靶产生样本的x射线图像以改善成像分辨率和图像获取时间之间的通常折衷。电子射束垂直于薄片的较窄尺寸撞击薄片状靶,所述较窄尺寸随后确定沿着该轴的实际源尺寸。对于低能量x射线生成,平行于薄片的较宽尺寸的小电子穿透深度确定沿着该轴的实际源尺寸。在相同成像分辨率情况下,与柱状靶相比,靶的传导冷却得到改善。薄片状靶足够长以确保电子射束不会撞击支撑结构,撞击支撑结构将会降低成像分辨率。靶材料可选自用于块状或柱状靶的相同金属,包括钨、钼、钛、钪、钒、银或难熔金属。
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公开(公告)号:CN104995690B
公开(公告)日:2017-11-17
申请号:CN201480008362.3
申请日:2014-01-15
Applicant: 卡尔蔡司X射线显微镜公司
Inventor: 托马斯·A·凯斯 , 苏珊·坎德尔 , 斯里瓦特桑·瑟哈德里 , 保罗·麦吉尼斯
CPC classification number: G01N23/046 , A61B6/03 , A61B6/482 , A61B6/52 , G01N2223/419 , G01N2223/423 , G06F3/0481 , G06F3/04817 , G06F3/04842 , G06K9/6212 , G06T5/40 , G06T5/50 , G06T11/006 , G06T15/08 , G21K7/00
Abstract: 一种多能量,如双能量(DE),X射线成像系统数据采集和图像重建系统和方法可最优化样本的图像对比度。使用该DE X射线成像系统及其相关用户界面应用程序,操作者可对利用相同量的样品进行低能(LE)和高能(HE)X射线扫描。该系统通过低能投影创建低能重建断层体数据集,并通过高能投影创建高能重建断层体数据集。这使得操作者可控制被选择片的图像对比度,并将与所述最优化该被选择片的对比度的相关信息应用到断层体数据集的所有片中。这创建了来自LE和HE体数据集的组合体数据集。
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公开(公告)号:CN106356111A
公开(公告)日:2017-01-25
申请号:CN201610874398.0
申请日:2016-09-30
Applicant: 同济大学
IPC: G21K7/00
CPC classification number: G21K7/00
Abstract: 本发明涉及一种八通道Kirkpatrick-Baez显微镜的精密装配方法,每两块反向对称排列的反射镜构成一个镜对,各镜对分别设计成具有特定的镜面间距和镜面夹角,使得各通道最佳视场的位置重合并且像点间隔符合分幅相机微带的间隔,通过X射线成像实验确保最佳视场位置重合并且控制各像点位于分幅相机微带范围以内,最后将调节完毕的三对反射镜胶合固化为一套八通道KB物镜。与现有技术相比,本发明方法避免了现有多通道KB物镜装配过程中对光学元件的苛刻要求,同时避免了现有间接装配方式存在的误差引入问题,因此最终的装配精度高。
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公开(公告)号:CN103377746B
公开(公告)日:2015-12-02
申请号:CN201210111518.3
申请日:2012-04-16
Applicant: 中国科学技术大学
IPC: G21K7/00
Abstract: 本发明公开了一种实现显微镜系统超分辨成像的方法。该方法基于一包括光源、聚焦镜、物镜和图像探测器的显微镜系统,包括:搭建显微镜系统;改变显微镜系统中聚焦镜的数值孔径,采集样品的分别对应不同聚焦镜数值孔径的至少两张暗场像;在至少两张暗场像中分别提取对应像素的散射强度值,构造以聚焦镜数值孔径为自变量,以所提取的散射强度值为因变量的实验散射强度曲线;由实验散射强度曲线获得样品上瑞利分辨单元内部亚分辨尺度的微观结构信息,实现显微镜的超分辨成像。本发明具有突破显微镜系统的固有分辨率极限、并提升成像衬度的优点。
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公开(公告)号:CN101366097B
公开(公告)日:2015-09-16
申请号:CN200680045703.X
申请日:2006-10-11
Applicant: 莱克公司
Inventor: A·N·沃恩特奇科夫 , M·I·雅格 , Y·卡·辛
CPC classification number: H01J49/401 , H01J49/406
Abstract: 本发明公开了一种多次反射飞行时间质谱仪(MR-TOF MS)(11),包括一对无网格离子镜(12)、漂移空间(13)、正交离子加速器(14)、可任选的偏转器(15)、离子检测器(16)、周期透镜组(17)、以及边缘偏转器(18)。为了提高MR-TOF MS中的由长飞行限定的低重复率的离子注入的占空比,可以进行多路测量。输入的离子束和加速器可以基本取向为穿过MR-TOF中的离子路径,同时通过倾斜加速器以及使离子束转向相同角度对离子束的初始速度进行补偿。为了进一步提高任何多次反射或多次返回质谱仪的占空比,可以通过离子导向器对轴向离子速度进行调制来对离子束进行时间压缩。可以通过将离子束捕获在静电阱中来提高离子在加速器中的驻留时间。在加速器中具有延长驻留时间的设备对灵敏度和分辨率均进行了提高。
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公开(公告)号:CN102903413B
公开(公告)日:2015-06-03
申请号:CN201210424894.8
申请日:2012-10-30
Applicant: 同济大学
IPC: G21K7/00
Abstract: 本发明涉及一种在小尺寸背光下工作的四通道KB显微成像系统,该系统包括在子午方向上依次排列的两块KB物镜和在弧矢方向上依次排列的两块KB物镜;物点发出的X射线经过子午方向上的两块KB物镜分别反射后形成两个通道的一维成像,随后两个通道的一维成像再经过弧矢方向上的两块KB物镜分别反射后形成四个通道的两维成像。与现有技术相比,本发明提出的四通道KB系统的四块KB物镜采用依次排列的方式,在空间上没有相互干扰,也就降低了装调难度,显著降低了四通道KB系统对背光X射线尺寸的要求,相应的提高了单位面积上的背光X射线强度,拓展了四通道KB系统在ICF物理实验中的应用范围,适合在我国目前强激光装置上使用。
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