公开(公告)号：US20120182714A1

公开(公告)日：2012-07-19

申请号：US13432515

申请日：2012-03-28

Applicant: Sunghoon KWON ,  Sueun Chung ,  Seungah Lee ,  Jisung Jang ,  Sangkwon Han

Inventor： Sunghoon KWON ,  Sueun Chung ,  Seungah Lee ,  Jisung Jang ,  Sangkwon Han

IPC: F21V9/16 ,  B05D5/06 ,  B05D1/18 ,  G02B5/02

CPC classification number: G02B5/02 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0066 ,  G02B27/09 ,  H01L33/50 ,  H01L33/58 ,  H01L2924/0002 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 ,  H01L2924/00

Abstract: Provided is a composite film used for a light emitting apparatus including a light emitting device. The composite film includes a fluorescent layer including phosphors and an optical plate disposed on the fluorescent layer, and diffusing, reducing or mixing at least one of light emitted by the light emitting device, light emitted by the phosphors and a combination thereof.

Abstract translation: 提供了一种用于包括发光器件的发光装置的复合膜。 该复合膜包括荧光体层和布置在荧光层上的光学板，并且扩散，减少或混合由发光器件发射的光中的至少一种，由荧光体发射的光及其组合。

公开(公告)号：US09323159B2

公开(公告)日：2016-04-26

申请号：US13433938

申请日：2012-03-29

Applicant: Sung Hoon Kwon ,  Sueun Chung ,  Seungah Lee ,  Jisung Jang ,  Sangkwon Han

Inventor： Sung Hoon Kwon ,  Sueun Chung ,  Seungah Lee ,  Jisung Jang ,  Sangkwon Han

IPC: G03B27/52 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/56

CPC classification number: C23C16/52 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2057 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/00 ,  H01L21/561

Abstract: A technique related with a lithography system is disclosed. The lithography system includes at least one target object disposed on a substrate, a processor configured to process an image of the target object to determine an optical pattern for a coating layer of the target object, and an exposure apparatus configured to provide light having the optical pattern determined by the processor to the substrate.

Abstract translation: 公开了一种与光刻系统相关的技术。 光刻系统包括设置在基板上的至少一个目标物体，被配置为处理目标对象的图像以确定目标对象的涂层的光学图案的处理器，以及配置为提供具有光学元件的光的曝光装置 图案由处理器确定到基板。

公开(公告)号：US20120236278A1

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：US13433938

申请日：2012-03-29

Applicant: Sung Hoon KWON ,  Sueun Chung ,  Seungah Lee ,  Jisung Jang ,  Sangkwon Han

Inventor： Sung Hoon KWON ,  Sueun Chung ,  Seungah Lee ,  Jisung Jang ,  Sangkwon Han

IPC: G03B27/42 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC classification number: C23C16/52 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2057 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/00 ,  H01L21/561

Abstract: A technique related with a lithography system is disclosed. The lithography system includes at least one target object disposed on a substrate, a processor configured to process an image of the target object to determine an optical pattern for a coating layer of the target object, and an exposure apparatus configured to provide light having the optical pattern determined by the processor to the substrate.

Abstract translation: 公开了一种与光刻系统相关的技术。 光刻系统包括设置在基板上的至少一个目标物体，被配置为处理目标对象的图像以确定目标对象的涂层的光学图案的处理器，以及配置为提供具有光学元件的光的曝光装置 图案由处理器确定到基板。