公开(公告)号：US09562123B2

公开(公告)日：2017-02-07

申请号：US14385920

申请日：2013-02-22

Applicant: Chang Min Lee ,  Seung Jib Choi ,  Ji Hye Kwon ,  Yeon Soo Lee ,  Kyoung Jin Ha

Inventor： Chang Min Lee ,  Seung Jib Choi ,  Ji Hye Kwon ,  Yeon Soo Lee ,  Kyoung Jin Ha

IPC: C08F222/10 ,  C08L83/08 ,  C09D133/00 ,  C08L33/00 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  H01L51/44 ,  H01L51/52

CPC classification number: C08F222/10 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C08L33/00 ,  C08L83/08 ,  C09D133/00 ,  H01L51/448 ,  H01L51/5253 ,  Y10T428/239

Abstract: The present invention relates to a photocurable composition, to a barrier layer including same, and to an encapsulated device including same, wherein the composition comprises a photocurable monomer(A) and a silicon containing monomer(B), wherein the silicon containing monomers(B) has a structure according to Formula 1.

Abstract translation: 本发明涉及一种可光固化组合物，包含它的阻挡层，以及包含它的包封装置，其中该组合物包含可光固化单体（A）和含硅单体（B），其中含硅单体 ）具有根据式1的结构。

公开(公告)号：US20150079332A1

公开(公告)日：2015-03-19

申请号：US14385920

申请日：2013-02-22

Applicant: Chang Min Lee ,  Seung Jib Choi ,  Ji Hye Kwon ,  Yeon Soo Lee ,  Kyoung Jin Ha

Inventor： Chang Min Lee ,  Seung Jib Choi ,  Ji Hye Kwon ,  Yeon Soo Lee ,  Kyoung Jin Ha

IPC: C08F222/10

CPC classification number: C08F222/10 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C08L33/00 ,  C08L83/08 ,  C09D133/00 ,  H01L51/448 ,  H01L51/5253 ,  Y10T428/239

Abstract: The present invention relates to a photocurable composition, to a barrier layer including same, and to an encapsulated device including same, wherein the composition comprises a photocurable monomer(A) and a silicon containing monomer(B), wherein the silicon containing monomers(B) has a structure according to Formula 1.

Abstract translation: 本发明涉及一种可光固化组合物，包含它的阻挡层，以及包含它的包封装置，其中该组合物包含可光固化单体（A）和含硅单体（B），其中含硅单体 ）具有根据式1的结构。

公开(公告)号：US08906271B2

公开(公告)日：2014-12-09

申请号：US13652661

申请日：2012-10-16

Applicant: Yeon-Soo Lee ,  Seong-Ryong Nam ,  Taek-Jin Baek ,  Sang-Won Cho ,  Jae-Hyun Kim ,  Chang-Min Lee ,  Gyu-Seok Han

Inventor： Yeon-Soo Lee ,  Seong-Ryong Nam ,  Taek-Jin Baek ,  Sang-Won Cho ,  Jae-Hyun Kim ,  Chang-Min Lee ,  Gyu-Seok Han

IPC: G02B5/23 ,  G02B5/22

CPC classification number: G02B1/04 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/033 ,  G03F7/105 ,  C08L33/08 ,  C08L33/10

Abstract: Disclosed is a photosensitive resin composition for a color filter and a color filter using the same. The photosensitive resin composition for a color filter includes (A) a dye-polymer composite including a structural unit derived from the compound represented by the following Chemical Formula 1, wherein each substituent is the same as defined in the detailed description; (B) an acryl-based photopolymerizable monomer; (C) a photopolymerization initiator; and (D) a solvent.

Abstract translation: 公开了一种用于滤色器的感光性树脂组合物和使用其的滤色器。 用于滤色器的感光性树脂组合物包括（A）包含衍生自由以下化学式1表示的化合物的结构单元的染料 - 聚合物复合物，其中每个取代基与详细描述中定义相同; （B）丙烯酸类光聚合性单体; （C）光聚合引发剂; 和（D）溶剂。

公开(公告)号：US20140106111A1

公开(公告)日：2014-04-17

申请号：US14036392

申请日：2013-09-25

Applicant: Seong Ryong NAM ,  Chang Min LEE ,  Seung Jib CHOI ,  Ji Hye KWON ,  Chang Soo WOO ,  Yeon Soo LEE ,  Kyoung Jin HA

Inventor： Seong Ryong NAM ,  Chang Min LEE ,  Seung Jib CHOI ,  Ji Hye KWON ,  Chang Soo WOO ,  Yeon Soo LEE ,  Kyoung Jin HA

IPC: H01L51/52

CPC classification number: H01L51/5253 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0755 ,  Y10T428/239

Abstract: A photocurable composition, a composition for encapsulation of an organic light emitting device, an encapsulated device, and an encapsulated apparatus, the photocurable composition including a photocurable monomer; a silicon-containing monomer; and a photopolymerization initiator, wherein the silicon-containing monomer has a structure represented Formula 1:

Abstract translation: 光固化性组合物，有机发光装置的封装用组合物，封装装置和封装装置，所述光固化性组合物含有光固化性单体; 含硅单体; 和光聚合引发剂，其中所述含硅单体具有式1所示的结构：

公开(公告)号：US20130236681A1

公开(公告)日：2013-09-12

申请号：US13785354

申请日：2013-03-05

Applicant: Chang Min LEE ,  Seung Jib CHOI ,  Ji Hye KWON ,  Irina NAM ,  Jin Seong PARK ,  Yeon Soo LEE ,  Kyoung Jin HA

Inventor： Chang Min LEE ,  Seung Jib CHOI ,  Ji Hye KWON ,  Irina NAM ,  Jin Seong PARK ,  Yeon Soo LEE ,  Kyoung Jin HA

IPC: C09D183/06

CPC classification number: C09D183/06 ,  C08G77/20 ,  C08L83/06 ,  C08L2312/06 ,  C09D143/04 ,  Y10T428/23

Abstract: A photocurable composition includes (A) a photocurable monomer and (B) a silicon-containing monomer or oligomer thereof, the silicon-containing monomer being represented by Formula 1

Abstract translation: 光固化性组合物包含（A）光固化性单体和（B）含硅单体或其低聚物，所述含硅单体由式1表示

公开(公告)号：US08227456B2

公开(公告)日：2012-07-24

申请号：US12578660

申请日：2009-10-14

Applicant: Bum Tae Kim ,  Yong Ki Min ,  Yeon Soo Lee ,  Jung Nyoung Heo ,  Hyuk Lee ,  No Kyun Park ,  Jung-Keun Kim ,  Se-Won Kim ,  Seon-Yle Ko

Inventor： Bum Tae Kim ,  Yong Ki Min ,  Yeon Soo Lee ,  Jung Nyoung Heo ,  Hyuk Lee ,  No Kyun Park ,  Jung-Keun Kim ,  Se-Won Kim ,  Seon-Yle Ko

IPC: A61K31/33

CPC classification number: A61K31/192

Abstract: The present invention relates to a use of a specific alpha-arylmethoxyacrylate derivative, or its pharmacologically acceptable salt or solvate for preventing and treating metabolic bone diseases.

Abstract translation: 本发明涉及特定的α-芳基甲氧基丙烯酸酯衍生物或其药理学上可接受的盐或溶剂合物用于预防和治疗代谢性骨疾病的用途。

公开(公告)号：US20080280901A1

公开(公告)日：2008-11-13

申请号：US11570160

申请日：2005-06-22

Applicant: Bum Tae Kim ,  Yong Ki Min ,  Yeon Soo Lee ,  Jung Nyoung Heo ,  Hyuk Lee ,  No Kyun Park ,  Jung-Keun Kim ,  Se-Won Kim ,  Seon-Yle Ko

Inventor： Bum Tae Kim ,  Yong Ki Min ,  Yeon Soo Lee ,  Jung Nyoung Heo ,  Hyuk Lee ,  No Kyun Park ,  Jung-Keun Kim ,  Se-Won Kim ,  Seon-Yle Ko

IPC: A61K31/5377 ,  A61K31/24 ,  A61P19/10

CPC classification number: A61K31/192

Abstract: The present invention relates to a use of a specific alpha-arylmethoxyacrylate derivative, or its pharmacologically acceptable salt or solvate for preventing and treating metabolic bone diseases.

Abstract translation: 本发明涉及特定的α-芳基甲氧基丙烯酸酯衍生物或其药理学上可接受的盐或溶剂合物用于预防和治疗代谢性骨疾病的用途。

公开(公告)号：US20080221205A1

公开(公告)日：2008-09-11

申请号：US12125841

申请日：2008-05-22

Applicant: Jung-Keun Kim ,  Se-Won Kim ,  Kwi-Ok Oh ,  Seon Yle Ko ,  Jong Yeo Kim ,  Byung-Eui Lee ,  Bum Tae Kim ,  Yeon Soo Lee ,  Yong Ki Min ,  No Kyun Park

Inventor： Jung-Keun Kim ,  Se-Won Kim ,  Kwi-Ok Oh ,  Seon Yle Ko ,  Jong Yeo Kim ,  Byung-Eui Lee ,  Bum Tae Kim ,  Yeon Soo Lee ,  Yong Ki Min ,  No Kyun Park

IPC: A61K31/341 ,  A61P19/10

CPC classification number: A61K31/34 ,  A23L33/10 ,  A23L33/15 ,  A23L33/16 ,  A61K31/341 ,  C07D307/68

Abstract: The present invention relates to furan derivatives and pharmaceutical compositions containing them to prevent and cure osteoporosis. The furan derivatives of the present invention have effect on bone proliferation with the side effect reduced, so that they can be used for bone disease.

Abstract translation: 本发明涉及含有它们的呋喃衍生物和药物组合物以预防和治愈骨质疏松症。 本发明的呋喃衍生物对骨增生有影响，副作用降低，因此可用于骨病。

公开(公告)号：US5726127A

公开(公告)日：1998-03-10

申请号：US646352

申请日：1996-07-24

Applicant: Dae Whang Kim ,  Kyeong Yeol Yun ,  Jae Wook Ryu ,  Yeon Soo Lee ,  Seung Kyu Kang ,  In Taek Hwang

Inventor： Dae Whang Kim ,  Kyeong Yeol Yun ,  Jae Wook Ryu ,  Yeon Soo Lee ,  Seung Kyu Kang ,  In Taek Hwang

IPC: C07D409/12 ,  A01N47/36 ,  C07D333/34 ,  C07D491/048 ,  C07D491/052 ,  C07D521/00

CPC classification number: C07D521/00 ,  A01N47/36 ,  C07D333/34

Abstract: The present invention relates to a thiophenesulfonylurea derivative represented by general formula (I), the process for preparation thereof, and herbicide using it; and a salt thereof, in which T represents a group T1, T2, or T3 having general formulae (a), wherein E represents a direct bond; R represents hydrogen or C.sub.1-4 acyl; R.sup.1 represents C.sub.1-6 alkyl substituted with 1 to 3 halogen atoms; R.sup.2 represents hydrogen, C.sub.1-3 alkyl, C.sub.1-3 haloalkyl, halogen, cyano, C.sub.1-3 alkoxy, C.sub.1-3 haloalkoxy, amino, methylamino, dimethylamino, or C.sub.1-3 alkyl substituted with C.sub.1-2 alkoxy, C.sub.1-2 haloalkoxy, thiol, methylthio, cyano or hydroxy; A represents a group selected from A1 to A4 having general formulae (b), and a herbicidal composition containing these derivatives.

Abstract translation: PCT No.PCT / KR94 / 00161 Sec。 371日期：1996年7月24日 102（e）日期1996年7月24日PCT 1994年11月9日PCT PCT。 公开号WO95 / 13276 日期1995年5月18日本发明涉及由通式（I）表示的噻吩磺酰脲衍生物，其制备方法和使用它的除草剂; 和其盐，其中T表示具有通式（a）的基团T1，T2或T3，其中E表示直接键; R代表氢或C1-4酰基; R 1表示被1至3个卤素原子取代的C 1-6烷基; R 2表示氢，C 1-3烷基，C 1-3卤代烷基，卤素，氰基，C 1-3烷氧基，C 1-3卤代烷氧基，氨基，甲基氨基，二甲基氨基或被C 1-2烷氧基取代的C 1-3烷基， ，硫醇，甲硫基，氰基或羟基; A表示选自具有通式（b）的A1至A4的基团和含有这些衍生物的除草组合物。

公开(公告)号：US09587046B2

公开(公告)日：2017-03-07

申请号：US13915648

申请日：2013-06-12

Applicant: Chang Min Lee ,  Seung Jib Choi ,  Ji Hye Kwon ,  Kyoung Jin Ha ,  Yeon Soo Lee

Inventor： Chang Min Lee ,  Seung Jib Choi ,  Ji Hye Kwon ,  Kyoung Jin Ha ,  Yeon Soo Lee

IPC: C08F36/20 ,  C08F20/10 ,  C08F30/02 ,  H01L51/52

CPC classification number: C08F36/20 ,  C08F20/10 ,  C08F30/02 ,  H01L51/5256

Abstract: Disclosed are a photocurable composition which includes (A) a photocurable monomer and (B) a monomer represented by Formula 1, and an apparatus including a protective layers formed of the composition;

Abstract translation: 公开了包含（A）光固化性单体和（B）由式1表示的单体的光固化性组合物，以及包含由该组合物形成的保护层的装置。