公开(公告)号：US20150359105A1

公开(公告)日：2015-12-10

申请号：US14733783

申请日：2015-06-08

Applicant: Iinnova Dynamics, Inc.

Inventor： Hichang Yoon ,  James Kundrat ,  Andrew Loxley ,  Arjun D. Srinivas ,  J. Russell Renzas ,  James W. Borchert ,  Sheng Peng ,  Vyankat Sindphale ,  Ralph E. Korenbrekke ,  Christopher L. Anderson

IPC: H05K3/06 ,  H05K1/02 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D129/04 ,  C09D139/02

CPC classification number: H05K3/067 ,  C08K5/17 ,  C09D5/00 ,  C09D5/24 ,  C09D7/40 ,  C09D7/63 ,  C09D7/65 ,  C09D129/04 ,  C09D139/02 ,  H05K1/0213 ,  H05K3/02 ,  H05K3/061 ,  H05K2201/0108 ,  H05K2201/026 ,  H05K2203/0307 ,  H05K2203/1142 ,  H05K2203/1157

Abstract: A manufacturing method of a patterned transparent conductor includes: (1) providing a transparent conductor including nanowires formed of a metal; and (2) applying a percolation-inhibition composition to a portion of the transparent conductor to partially degrade nanowires included in the portion. The percolation-inhibition composition includes a complexing agent for the metal.

Abstract translation: 图案化透明导体的制造方法包括：（1）提供包括由金属形成的纳米线的透明导体; 和（2）将渗透抑制组合物施加到所述透明导体的一部分以部分地降解所述部分中包括的纳米线。 渗滤抑制组合物包括金属络合剂。