公开(公告)号：US20150344314A1

公开(公告)日：2015-12-03

申请号：US14648478

申请日：2014-09-30

Applicant: LG CHEM. LTD.

Inventor： YooSeok KIM ,  Jeongkyu KIM ,  JinHyoung YOO ,  JungWoo LEE ,  Eunsu JANG

IPC: C01B33/107 ,  B01J19/24 ,  C01B33/021

CPC classification number: C01B33/10763 ,  B01J8/0015 ,  B01J8/20 ,  B01J19/2415 ,  B01J2219/00051 ,  B01J2219/24 ,  C01B33/021

Abstract: The present invention relates to a method for producing trichlorosilane. The method includes dispersing metal silicon particles in liquid silane-based compounds containing tetrachlorosilane and optionally reacting the metal silicon particles with hydrogen chloride in the presence of hydrogen gas.

Abstract translation: 本发明涉及三氯硅烷的制造方法。 该方法包括将金属硅颗粒分散在含有四氯硅烷的液体硅烷基化合物中，并在氢气存在下任选使金属硅颗粒与氯化氢反应。