公开(公告)号：US5929960A

公开(公告)日：1999-07-27

申请号：US953596

申请日：1997-10-17

Applicant: John L. West ,  Marc Rouberol ,  Yimin Ji ,  James J. Francl

Inventor： John L. West ,  Marc Rouberol ,  Yimin Ji ,  James J. Francl

IPC: G02F1/1333 ,  G02F1/1339

CPC classification number: G02F1/133377 ,  G02F1/13394

Abstract: A method for forming walls (8) between substrates (11, 12) in a liquid crystal cell (10) includes the step of forming a cell with a liquid crystal-monomer mixture (50). The cell (10) is then exposed to ultraviolet light (70) causing the monomer to be selectively polymerized to form walls (8) between substrates (11, 12) of the cell. The monomer is selectively polymerized by applying an electric field across the cell through a patterned conductive coating (31, 32) on each substrate (11, 12) to separate the dispersed monomer to the low field, interpixel regions (72). The cell (10) is then exposed to ultraviolet light (70) to polymerize the separated monomer to form the walls (8) in the low field regions (72).

Abstract translation: 一种用于在液晶单元（10）中的基板（11,12）之间形成壁（8）的方法包括用液晶单体混合物（50）形成单元的步骤。 然后将电池（10）暴露于紫外线（70），使得单体被选择性聚合以在电池的基板（11,12）之间形成壁（8）。 通过在每个衬底（11,12）上的图案化导电涂层（31,32）施加电场横跨电池的电场来选择性地聚合单体，以将分散的单体分离成低场，像素间区域（72）。 然后将电池（10）暴露于紫外光（70）以使分离的单体聚合以在低场区域（72）中形成壁（8）。

公开(公告)号：US06379569B1

公开(公告)日：2002-04-30

申请号：US09255839

申请日：1999-02-23

Applicant: Marc Rouberol

Inventor： Marc Rouberol

IPC: H01B1300

CPC classification number: H05K3/067 ,  C03C17/23 ,  C03C17/245 ,  C03C17/2453 ,  C03C2217/211 ,  C03C2217/231 ,  C03C2217/24 ,  C03C2217/241 ,  C03C2218/152 ,  C03C2218/33 ,  H01L31/1884 ,  H05K3/061 ,  H05K2201/0129 ,  H05K2201/0166 ,  H05K2201/0326 ,  Y02E10/50 ,  Y10S134/902

Abstract: The invention relates to a process for chemically etching a layer (2) having electrical conduction properties, on a transparent substrate (1) of the glass type. It includes at least one step of depositing a mask (3) comprising at least one hot-melt ink on the layer to be etched.

Abstract translation: 本发明涉及在玻璃类型的透明基板（1）上化学蚀刻具有导电特性的层（2）的方法。 它包括在待蚀刻层上沉积包含至少一种热熔油墨的掩模（3）的至少一个步骤。