公开(公告)号：US20150299845A1

公开(公告)日：2015-10-22

申请号：US14440676

申请日：2013-12-11

Applicant: SHENZHEN BYD AUTO R&D COMPANY LIMITED ,  BYD COMPANY LIMITED

Inventor： WEI ZHOU ,  YONGLIANG SUN

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/12 ,  C03C17/00 ,  G02B1/18 ,  C23C14/02 ,  C23C14/06 ,  G02B1/111 ,  G02B1/14 ,  C23C14/00 ,  C23C14/54

CPC classification number: C23C14/35 ,  C03C17/009 ,  C03C23/0075 ,  C03C2217/43 ,  C03C2217/76 ,  C03C2218/156 ,  C03C2218/31 ,  C23C14/0057 ,  C23C14/022 ,  C23C14/06 ,  C23C14/0694 ,  C23C14/12 ,  C23C14/3414 ,  G02B1/111 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18

Abstract: A film and a method for preparing the film are provided. A substrate is provided, and a film is formed on at least a part of a surface of the substrate by magnetron sputtering a target under a protective gas and a reactive gas. The target includes polytetrafluoroethylene and magnesium fluoride, and the reactive gas includes at least one selected from a group consisting of CF4 and SiF4.

Abstract translation: 提供了一种薄膜和一种制备薄膜的方法。 提供基板，并且通过在保护气体和反应气体下溅射靶材的磁控管在基板的表面的至少一部分上形成膜。 目标包括聚四氟乙烯和氟化镁，反应气体包括选自CF 4和SiF 4中的至少一种。