金属氧化物半导体组件及其制作方法
Abstract:
本发明揭露一种金属氧化物半导体组件及其制作方法,该金属氧化物半导体(MOS)组件包含具有第一与第二接触的有源区。第一与第二栅极位于第一与第二接触之间。第一栅极邻设于第一接触,且具有第三接触。第二栅极邻设于第二接触,且具有与第三接触耦合的第四接触。为有源区与第一栅极所定义出的晶体管具有第一临界电压,而为有源区与第二栅极所定义出的晶体管具有第二临界电压。
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