Invention Publication
- Patent Title: 负型感光性硅氧烷组合物
- Patent Title (English): Negative photosensitive siloxane composition
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Application No.: CN201380018124.6Application Date: 2013-04-05
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Publication No.: CN104254807APublication Date: 2014-12-31
- Inventor: 横山大志 , 能谷敦子 , 田代裕治 , 吉田尚史 , 田中泰明 , 福家崇司 , 高桥惠 , 谷口克人 , 野中敏章
- Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
- Applicant Address: 卢森堡卢森堡
- Assignee: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
- Current Assignee: 默克专利有限公司
- Current Assignee Address: 德国达姆施塔特
- Agency: 北京三幸商标专利事务所
- Agent 刘激扬
- Priority: 2012-087365 2012.04.06 JP
- International Application: PCT/JP2013/060517 2013.04.05
- International Announcement: WO2013/151166 JA 2013.10.10
- Date entered country: 2014-09-29
- Main IPC: G03F7/075
- IPC: G03F7/075 ; G03F7/004 ; G03F7/40

Abstract:
本发明提供可进行无机显影的负型感光性硅氧烷化合物、以及使用了其的固化膜的形成方法。一种负型感光性硅氧烷组合物,其包含聚硅氧烷、具有脲基键的含硅的化合物、聚合引发剂、以及溶剂。可通过将该组合物涂布于基材上,进行曝光,无需进行曝光后加热而进行显影,从而获得固化膜。
Public/Granted literature
- CN104254807B 负型感光性硅氧烷组合物 Public/Granted day:2020-02-18
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IPC分类: