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公开(公告)号：CN104254807A
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201380018124.6
申请日：2013-04-05
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
Abstract: 本发明提供可进行无机显影的负型感光性硅氧烷化合物、以及使用了其的固化膜的形成方法。一种负型感光性硅氧烷组合物，其包含聚硅氧烷、具有脲基键的含硅的化合物、聚合引发剂、以及溶剂。可通过将该组合物涂布于基材上，进行曝光，无需进行曝光后加热而进行显影，从而获得固化膜。
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公开(公告)号：CN104238271B
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201410260541.8
申请日：2014-06-12
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
Abstract: 本发明提供一种能低温固化的负型感光性组合物，其能得到透明性高、耐化学品性高的固化膜，并且还提供使用其的图案形成方法。一种负型感光性组合物，其特征在于包含：聚硅氧烷、(甲基)丙烯酸聚合物、含有两个以上(甲基)丙烯酰基的化合物、聚合引发剂以及溶剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104246612A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201380018141.X
申请日：2013-04-05
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: G03F7/075
CPC classification number: G03F7/0757 , C07F7/1804 , C08L83/04 , C09D183/04 , C09D183/06 , G03F7/0755 , G03F7/085 , G03F7/30
Abstract: 本发明提供可进行无机显影的负型感光性硅氧烷化合物、以及使用了其的固化膜的形成方法。一种负型感光性硅氧烷组合物，其包含聚硅氧烷、pKa为2.0～15.7的含硅的化合物、光聚合引发剂以及溶剂。可通过将该组合物涂布于基材上，进行曝光，然后利用无机显影液而显影，并进行加热，从而获得固化膜。
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公开(公告)号：CN104238271A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201410260541.8
申请日：2014-06-12
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
Abstract: 本发明提供一种能低温固化的负型感光性组合物，其能得到透明性高、耐化学品性高的固化膜，并且还提供使用其的图案形成方法。一种负型感光性组合物，其特征在于包含：聚硅氧烷、(甲基)丙烯酸聚合物、含有两个以上(甲基)丙烯酰基的化合物、聚合引发剂以及溶剂。
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公开(公告)号：CN104254807B
公开(公告)日：2020-02-18
申请号：CN201380018124.6
申请日：2013-04-05
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
Abstract: 本发明提供可进行无机显影的负型感光性硅氧烷化合物、以及使用了其的固化膜的形成方法。一种负型感光性硅氧烷组合物，其包含聚硅氧烷、具有脲基键的含硅的化合物、聚合引发剂、以及溶剂。可通过将该组合物涂布于基材上，进行曝光，无需进行曝光后加热而进行显影，从而获得固化膜。
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公开(公告)号：CN104246612B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201380018141.X
申请日：2013-04-05
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: G03F7/075
CPC classification number: G03F7/0757 , C07F7/1804 , C08L83/04 , C09D183/04 , C09D183/06 , G03F7/0755 , G03F7/085 , G03F7/30
Abstract: 本发明提供可进行无机显影的负型感光性硅氧烷化合物、以及使用了其的固化膜的形成方法。一种负型感光性硅氧烷组合物，其包含聚硅氧烷、pKa为2.0～15.7的含硅的化合物、光聚合引发剂以及溶剂。可通过将该组合物涂布于基材上，进行曝光，然后利用无机显影液而显影，并进行加热，从而获得固化膜。
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公开(公告)号：CN109563372A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780050058.9
申请日：2017-08-16
Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC: C09D183/04 , C08L83/04
CPC classification number: G03F7/0007 , C08G77/16 , C08G77/18 , C08G77/26 , C08G77/70 , C08G77/80 , C08G2150/00 , C08K3/04 , C08L83/04 , C09D183/04 , G02F1/133512 , C08K5/0025
Abstract: [问题]本发明提供一种材料，其是黑矩阵用的组合物，其适于制造适用于高亮度的显示设备结构的高耐热性且高遮光性的黑矩阵。[解决手段]使用一种黑矩阵用组合物，其包含(I)具有特定的重复单元的硅氧烷聚合物、(II)硅烷醇缩合催化剂、(III)黑色着色剂、以及(IV)溶剂。
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