Invention Grant
- Patent Title: 用于形成切割膜粘合层的组合物及切割膜
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Application No.: CN201480022020.7Application Date: 2014-12-12
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Publication No.: CN105143382BPublication Date: 2018-05-18
- Inventor: 金荣国 , 金熹正 , S·R·金 , 曹正镐 , 金丁鹤 , 南承希 , 李光珠
- Applicant: 株式会社LG化学
- Applicant Address: 韩国首尔
- Assignee: 株式会社LG化学
- Current Assignee: 株式会社LG化学
- Current Assignee Address: 韩国首尔
- Agency: 北京集佳知识产权代理有限公司
- Agent 顾晋伟
- Priority: 10-2013-0159583 2013.12.19 KR
- International Application: PCT/KR2014/012284 2014.12.12
- International Announcement: WO2015/093794 KO 2015.06.25
- Date entered country: 2015-10-13
- Main IPC: C09J11/08
- IPC: C09J11/08 ; C09J11/06 ; C09J133/04 ; C09J7/30 ; H01L21/58

Abstract:
本发明涉及一种用于形成切割膜粘合层的组合物、一种包括含有所述组合物的粘合层的切割膜、一种包括切割膜的切割晶片键合膜以及一种使用切割晶片键合膜切割半导体晶片的方法,所述组合物包含:聚合物添加剂、粘结粘合剂和光引发剂,所述聚合物添加剂包括一种或多种选自如下的聚合物:含有(甲基)丙烯酸酯基官能团和非极性官能团的聚合物、含有至少一个氟的(甲基)丙烯酸酯基聚合物和含有反应性官能团的硅改性的(甲基)丙烯酸酯基聚合物,其中聚合物添加剂与粘结粘合剂的重量比为0.01%至4.5%。
Public/Granted literature
- CN105143382A 用于形成切割膜粘合层的组合物及切割膜 Public/Granted day:2015-12-09
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