Invention Publication
- Patent Title: 载置台及等离子体处理装置
- Patent Title (English): Placing table and plasma treatment apparatus
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Application No.: CN201580024261.XApplication Date: 2015-06-01
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Publication No.: CN106463446APublication Date: 2017-02-22
- Inventor: 喜多川大 , 小泉克之 , 永井力 , 林大辅 , 照内怜
- Applicant: 东京毅力科创株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 东京毅力科创株式会社
- Current Assignee: 东京毅力科创株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 永新专利商标代理有限公司
- Agent 高迪
- Priority: 2014-121454 2014.06.12 JP
- International Application: PCT/JP2015/065738 2015.06.01
- International Announcement: WO2015/190333 JA 2015.12.17
- Date entered country: 2016-11-09
- Main IPC: H01L21/683
- IPC: H01L21/683 ; H01L21/3065

Abstract:
本发明提供一种载置台及等离子体处理装置。本发明的一实施方式的载置台具备支承部件及基座。支承部件具有:载置区域,具有加热器;及外周区域,围绕载置区域。基座具有:第1区域,在其上支承载置区域;及第2区域,围绕第1区域。第2区域中设有贯穿孔。电连接于加热器的配线穿过第2区域的贯穿孔。
Public/Granted literature
- CN106463446B 载置台及等离子体处理装置 Public/Granted day:2019-08-13
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IPC分类: