Invention Grant
- Patent Title: 低频率损耗GaN基微波功率器件及其制作方法
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Application No.: CN201710429801.3Application Date: 2017-06-09
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Publication No.: CN107248528BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: 杨凌 , 芦浩 , 马晓华 , 康慨 , 周小伟 , 宓珉瀚 , 祝杰杰 , 郝跃
- Applicant: 西安电子科技大学
- Applicant Address: 陕西省西安市雁塔区太白南路2号
- Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市雁塔区太白南路2号
- Agency: 陕西电子工业专利中心
- Agent 王品华; 朱红星
- Main IPC: H01L29/423
- IPC: H01L29/423 ; H01L21/335 ; H01L29/778

Abstract:
本发明公开了一种低频率损耗GaN基微波功率器件,自下而上包括衬底层(1)、成核层(2)、缓冲层(3)和势垒层(4),势垒层的两端分别设有源电极(5)和漏电极(6),其中源电极(5)与漏电极(6)之间的势垒层上依次设有SiN钝化层(7)和BN钝化层(8),该两层钝化层的中部刻蚀有开孔,开孔中引出半浮空栅电极(9)。本发明通过采用低介电常数、低电容材料BN与SiN组成复合钝化层,较传统钝化技术相比,减小了栅漏寄生电容和栅源寄生电容,降低了器件的频率损耗,可用于通讯、卫星导航、雷达系统和基站系统中。
Public/Granted literature
- CN107248528A 低频率损耗GaN基微波功率器件及其制作方法 Public/Granted day:2017-10-13
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IPC分类: