Invention Publication
- Patent Title: 阻抗匹配系统、阻抗匹配方法及半导体加工设备
- Patent Title (English): Impedance matching system, impedance matching method and semiconductor processing equipment
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Application No.: CN201610169506.4Application Date: 2016-03-23
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Publication No.: CN107256821APublication Date: 2017-10-17
- Inventor: 卫晶 , 成晓阳 , 李兴存 , 韦刚
- Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
- Applicant Address: 北京市经济技术开发区文昌大道8号
- Assignee: 北京北方华创微电子装备有限公司
- Current Assignee: 北京北方华创微电子装备有限公司
- Current Assignee Address: 北京市经济技术开发区文昌大道8号
- Agency: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- Agent 彭瑞欣; 张天舒
- Main IPC: H01J37/32
- IPC: H01J37/32 ; H01L21/67

Abstract:
本发明提供了一种阻抗匹配系统及方法。本发明提供的阻抗匹配系统包括阻抗匹配器,分别与连续波射频电源和反应腔室相连,用于自动对连续波射频电源输出阻抗和反应腔室的输入阻抗进行阻抗匹配;选择开关和负载电路,选择开关用于使连续波射频电源选择性地与反应腔室或负载电路相连;控制单元,用于按照预设时序控制选择开关在与反应腔室相连和与负载电路相连之间切换,以通过阻抗匹配器将射频电源的连续波输出转换成脉冲输出后加载至反应腔室。本发明提供的阻抗匹配系统及方法,不仅不需要昂贵的具有脉冲模式功能的射频电源,从而降低成本,还能够在脉冲模式下阻抗匹配器自动进行阻抗匹配,有效改善在脉冲模式下的匹配不稳定和不重复的现象。
Public/Granted literature
- CN107256821B 阻抗匹配系统、阻抗匹配方法及半导体加工设备 Public/Granted day:2019-02-19
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