一种层间绝缘层的制备方法、层间绝缘层及液晶显示面板
Abstract:
本发明提供一种层间绝缘层的制备方法、层间绝缘层及液晶显示面板,该方法包括下述步骤:S1、在基板上依次沉积低折射率的第一SiNx层、高折射率的第二SiNx层,其中,低折射率的范围为1.7~1.87,高折射率的范围为1.91~1.93,x≥1;S2、在第二SiNx层上沉积SiOy层,其中,SiOy层的折射率范围为1.4~1.5,y≥1。本发明提供的层间绝缘层具有良好的弹性和稳定性,并且承受的应力较小,不会破坏膜层,不会造成膜层破裂剥落,降低了对低温多晶硅的长距离精度的影响。
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