Invention Grant
- Patent Title: 一种QLED器件及其制备方法
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Application No.: CN201710737364.1Application Date: 2017-08-24
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Publication No.: CN109427939BPublication Date: 2021-04-13
- Inventor: 李龙基 , 曹蔚然
- Applicant: TCL科技集团股份有限公司
- Applicant Address: 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦
- Assignee: TCL科技集团股份有限公司
- Current Assignee: TCL科技集团股份有限公司
- Current Assignee Address: 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦
- Agency: 深圳市君胜知识产权代理事务所
- Agent 王永文; 刘文求
- Main IPC: H01L33/14
- IPC: H01L33/14 ; H01L33/02

Abstract:
本发明公开一种QLED器件及其制备方法,所述QLED器件包括依次设置的阳极、量子点发光层和阴极,其中,还包括设置于所述阳极和所述量子点发光层之间的BiOI层,及设置于所述阴极和所述量子点发光层之间的BiOI层。本发明在量子点发光层两侧设置一层超薄的BiOI,所述阳极和所述量子点发光层之间的BiOI层,增加了注入的空穴浓度;所述阴极和所述量子点发光层之间的BiOI层,增加了注入的电子浓度。并且所述量子点发光层两侧的超薄BiOI层将电子和空穴限制在量子点发光层内,从而增加电子与空穴对的复合,有效提高载流子平衡,减少漏电流的产生,进而有效提高了QLED器件的发光效率。
Public/Granted literature
- CN109427939A 一种QLED器件及其制备方法 Public/Granted day:2019-03-05
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IPC分类: