Invention Grant
- Patent Title: 一种薄膜及其制备方法与QLED器件
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Application No.: CN201711435544.0Application Date: 2017-12-26
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Publication No.: CN109962170BPublication Date: 2021-04-13
- Inventor: 杨一行 , 程陆玲
- Applicant: TCL科技集团股份有限公司
- Applicant Address: 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦
- Assignee: TCL科技集团股份有限公司
- Current Assignee: TCL科技集团股份有限公司
- Current Assignee Address: 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦
- Agency: 深圳市君胜知识产权代理事务所
- Agent 王永文; 刘文求
- Main IPC: H01L51/50
- IPC: H01L51/50 ; H01L51/56

Abstract:
本发明公开一种薄膜及其制备方法与QLED器件,所述薄膜包括高分子材料和分散在所述高分子材料中的量子点,其中所述高分子材料包括至少一种阻隔高分子材料,所述阻隔高分子材料的重均分子量高于10万。与现有纯量子点的薄膜相比,本发明薄膜中含有量子点与高分子材料,利用高分子材料有效隔离量子点并增大量子点之间的相互距离,从而减少量子点之间的相互作用并最大程度抑制量子点之间的无辐射能量转移和浓度淬灭,达到薄膜中量子点发光量子产率的提升。利用这种具有高发光量子产率的薄膜到QLED器件中,就能实现高效率的QLED器件。
Public/Granted literature
- CN109962170A 一种薄膜及其制备方法与QLED器件 Public/Granted day:2019-07-02
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