Invention Publication
- Patent Title: 一种栅控双极-场效应复合碳化硅横向双扩散金属氧化物半导体晶体管
-
Application No.: CN201910471436.1Application Date: 2019-05-31
-
Publication No.: CN110212033APublication Date: 2019-09-06
- Inventor: 段宝兴 , 董自明 , 杨银堂
- Applicant: 西安电子科技大学
- Applicant Address: 陕西省西安市太白南路2号
- Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市太白南路2号
- Agency: 西安智邦专利商标代理有限公司
- Agent 胡乐
- Main IPC: H01L29/78
- IPC: H01L29/78 ; H01L29/16 ; H01L29/10

Abstract:
本发明公开了一种栅控双极-场效应复合碳化硅横向双扩散金属氧化物半导体晶体管,衬底为碳化硅材料,基区接触的表面形成基极,基极与源极隔离,与栅极电连接,代替传统的碳化硅LDMOS中基区与源极短接的电极连接方式,满足:栅极接入电压时,基区获得的电压使得器件寄生的双极型晶体管开启。该结构与传统LDMOS器件相比,在保证器件具有相同击穿电压的同时,大幅度提高器件的导通电流,极大改善碳化硅晶体管的导通性能。
Public/Granted literature
- CN110212033B 一种栅控双极-场效应复合碳化硅LDMOS Public/Granted day:2021-04-13
Information query
IPC分类: