Invention Publication
- Patent Title: 电镀过程中监测籽晶层上的表面氧化物
- Patent Title (English): MONITORING SURFACE OXIDE ON SEED LAYERS DURING ELECTROPLATING
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Application No.: CN201880031649.6Application Date: 2018-03-29
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Publication No.: CN110622288APublication Date: 2019-12-27
- Inventor: 黄璐丹 , 李·J·布罗根 , 泰伊·A·斯柏林 , 尚蒂纳特·古艾迪 , 乔纳森·大卫·里德 , 马尼什·兰詹 , 布赖恩·彭宁顿 , 克利福德·雷蒙德·拜里
- Applicant: 朗姆研究公司
- Applicant Address: 美国加利福尼亚州
- Assignee: 朗姆研究公司
- Current Assignee: 朗姆研究公司
- Current Assignee Address: 美国加利福尼亚州
- Agency: 上海胜康律师事务所
- Agent 李献忠; 张静
- Priority: 15/475,022 2017.03.30 US
- International Application: PCT/US2018/025265 2018.03.29
- International Announcement: WO2018/183755 EN 2018.10.04
- Date entered country: 2019-11-13
- Main IPC: H01L21/66
- IPC: H01L21/66 ; H01L21/288

Abstract:
描述了用于确定衬底是否包括在该衬底的表面上的不可接受的大量氧化物的方法和设备。所述衬底通常是要电镀的衬底。该确定可以在电镀工艺的初始部分期间直接在电镀装置中进行。该确定可以包括将衬底浸入具有在浸入期间或浸入之后立即提供的特定施加的电压或施加的电流的电解质中,并记录在同一时间范围内的电流响应或电压响应。施加的电流或施加的电压可以为零或非零。通过将电流响应或电压响应与阈值电流、阈值电压或阈值时间进行比较,可以确定衬底是否包含在其表面上的不可接受的大量氧化物。可以基于校准程序来选择阈值电流、阈值电压和/或阈值时间。
Public/Granted literature
- CN110622288B 电镀过程中监测籽晶层上的表面氧化物 Public/Granted day:2023-12-01
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IPC分类: