Invention Publication
- Patent Title: 场效应晶体管、其制造方法和使用它的无线通信装置和商品标签
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Application No.: CN201880054815.4Application Date: 2018-09-25
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Publication No.: CN111095566APublication Date: 2020-05-01
- Inventor: 崎井大辅 , 村濑清一郎 , 胁田润史
- Applicant: 东丽株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 东丽株式会社
- Current Assignee: 东丽株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京市中咨律师事务所
- Agent 李照明; 段承恩
- Priority: 2017-189900 2017.09.29 JP
- International Application: PCT/JP2018/035275 2018.09.25
- International Announcement: WO2019/065561 JA 2019.04.04
- Date entered country: 2020-02-24
- Main IPC: H01L29/786
- IPC: H01L29/786 ; C08G77/42 ; C08G77/58 ; C08K3/013 ; C08K3/22 ; C08L83/04 ; C08L101/00 ; H01L51/05 ; H01L51/30

Abstract:
本发明是一种场效应晶体管,至少具有基板、源极、漏极和栅极、与所述源极和漏极接触的半导体层、以及将所述半导体层与所述栅极绝缘的栅极绝缘层,所述半导体层含有碳纳米管,所述栅极绝缘层含有与无机粒子结合的聚合物。本发明提供漏电流降低、进而半导体溶液被均匀涂布的场效应晶体管和其制造方法。
Public/Granted literature
- CN111095566B 场效应晶体管、其制造方法和使用它的无线通信装置和商品标签 Public/Granted day:2023-05-23
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IPC分类: