Invention Publication
- Patent Title: 半导体结构及其形成方法
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Application No.: CN202110380641.4Application Date: 2021-04-09
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Publication No.: CN113363244APublication Date: 2021-09-07
- Inventor: 侯上勇 , 胡宪斌 , 邱绍玲 , 魏文信 , 黄炳刚 , 沈志达 , 卢思维 , 施应庆 , 邱文智 , 吴集锡 , 余振华
- Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
- Applicant Address: 中国台湾新竹
- Assignee: 台湾积体电路制造股份有限公司
- Current Assignee: 台湾积体电路制造股份有限公司
- Current Assignee Address: 中国台湾新竹
- Agency: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- Agent 章社杲; 李伟
- Priority: 16/881,211 20200522 US
- Main IPC: H01L25/065
- IPC: H01L25/065 ; H01L23/498 ; H01L21/50

Abstract:
半导体结构包括:第一中介层;第二中介层,与第一中介层横向相邻,其中,第二中介层与第一中介层间隔开;以及第一管芯,附接至第一中介层的第一侧并且附接至第二中介层的第一侧,其中,第一中介层的第一侧和第二中介层的第一侧面向第一管芯。本申请的实施例还涉及形成半导体结构的方法。
Public/Granted literature
- CN113363244B 半导体结构及其形成方法 Public/Granted day:2024-12-27
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IPC分类: