Invention Publication
- Patent Title: 一种基于UV激光直写光刻的双胶合微阵列透镜的制备方法
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Application No.: CN202111681529.0Application Date: 2021-12-29
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Publication No.: CN114280706APublication Date: 2022-04-05
- Inventor: 栾世奕 , 桂成群 , 宋毅 , 薛兆丰
- Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
- Applicant Address: 上海市浦东新区自由贸易试验区富特东一路396号1幢5层512室
- Assignee: 矽万(上海)半导体科技有限公司
- Current Assignee: 矽万(上海)半导体科技有限公司
- Current Assignee Address: 上海市浦东新区自由贸易试验区富特东一路396号1幢5层512室
- Agency: 上海远同律师事务所
- Agent 丁利华
- Main IPC: G02B3/00
- IPC: G02B3/00 ; G03F7/20

Abstract:
本发明提出了一种基于UV激光直写光刻的双胶合微阵列透镜的制备方法,包括以下步骤:步骤a:设计好构成双胶合微透镜的单个微透镜的尺寸,将每个所述单个微透镜分解为2个透镜,每个所述透镜的一面均为平面;步骤b:将分解后的每个透镜分别形成为微透镜阵列组,并在每个所述微透镜阵列组旁边形成一组或两组对准标记,并制作相应的灰度图;步骤c:根据所述灰度图基于UV激光直写光刻技术制作微透镜阵列组和相应的对准标记;以及步骤d:通过步骤c中制作好的所述对准标记将制作好的所述微透镜阵列组进行对准,并组成双胶合微阵列透镜。本发明方法的技术原理简单可行。另外,本发明方法对微阵列透镜进行拼接胶合,可有效减小透镜像的像差及色差。
Public/Granted literature
- CN114280706B 一种基于UV激光直写光刻的双胶合微阵列透镜的制备方法 Public/Granted day:2023-03-31
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