Invention Grant
- Patent Title: 半导体器件及其制作方法
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Application No.: CN202210906351.3Application Date: 2022-07-29
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Publication No.: CN115223933BPublication Date: 2025-04-25
- Inventor: 邢家明 , 戴辛志 , 肖海波 , 高喜峰 , 施喆天
- Applicant: 豪威集成电路(成都)有限公司
- Applicant Address: 四川省成都市中国(四川)自由贸易试验区成都高新区和乐二街171号B6栋2单元4楼
- Assignee: 豪威集成电路(成都)有限公司
- Current Assignee: 豪威集成电路(成都)有限公司
- Current Assignee Address: 四川省成都市中国(四川)自由贸易试验区成都高新区和乐二街171号B6栋2单元4楼
- Agency: 上海思捷知识产权代理有限公司
- Agent 尤彩红
- Main IPC: H01L21/78
- IPC: H01L21/78 ; H01L21/683

Abstract:
本发明提供一种半导体器件及其制作方法,包括:提供堆叠晶圆,所述堆叠晶圆中的每层晶圆均包括层叠的半导体衬底和隔离层;在所述堆叠晶圆的划片道内形成沟槽,在所述沟槽中形成绝缘层和嵌设在所述绝缘层中的导电结构,所述导电结构沿所述堆叠晶圆的厚度方向从所述堆叠晶圆中的最顶层晶圆延伸到最底层晶圆;切割所述堆叠晶圆,切割每层所述晶圆产生的静电通过所述导电结构导走。本发明通过导电结构增加导电通道,导走顶层晶圆和中间晶圆的静电荷,降低白噪声,避免击穿晶圆上的静电环。
Public/Granted literature
- CN115223933A 半导体器件及其制作方法 Public/Granted day:2022-10-21
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IPC分类: